[發明專利]一種光產酸劑及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201611122773.2
• 申請日: 2016-12-08
• 公開（公告）號: CN108178807B
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發明（設計）人: 鄧海;彭彧
• 申請（專利權）人: 復旦大學
• 主分類號: C08F8/34
• 分類號: C08F8/34;C08F120/14;G03F7/004
• 代理公司: 上海一平知識產權代理有限公司 31266
• 代理人: 馬思敏;陸鳳

1.一種光產酸劑，其特征在于，所述光產酸劑包含高分子骨架和結合于所述高分子骨架上的產酸活性基團，并且，在所述光產酸劑中，50-100wt％的所述產酸活性基團位于所述高分子骨架的末端；在相同的光照強度下，在相同的光照時間下，相比于所述產酸活性基團隨機分布結合于所述高分子骨架上的光產酸劑，所述光產酸劑的產酸效率提高至少20％；并且所述的光產酸劑具有選自下組所示結構：

其中，P表示產酸活性基團，A表示連接基團，Core表示高分子骨架。

2.如權利要求1所述的光產酸劑，其特征在于，所述光產酸劑的末端中，10-100％摩爾數的末端為所述產酸活性基團。

3.如權利要求1所述的光產酸劑，其特征在于，所述產酸活性基團通過共價鍵結合于所述高分子骨架上，且所述產酸活性基團的共價鍵合的前體具有選自下組的鍵合位點：鹵素、羥基、氨基、亞胺基、或其組合。

4.如權利要求3所述的光產酸劑，其特征在于，所述產酸活性基團的共價鍵合的前體為選自下組的鎓鹽型結構單元：硫鎓、碘鎓、或其組合。

5.如權利要求3所述的光產酸劑，其特征在于，所述高分子骨架的共價鍵合的前體具有選自下組的鍵合位點：鹵素、羥基、氨基、亞胺基、或其組合。

6.如權利要求3所述的光產酸劑，其特征在于，在相同的光照強度下，在相同的光照時間下，相比于所述產酸活性基團隨機分布結合于所述高分子骨架上的光產酸劑，所述光產酸劑的產酸效率提高至少30％。

7.如權利要求6所述的光產酸劑，其特征在于，以所述光產酸劑進行光刻時，所得線條的粗糙度≤6％。

8.如權利要求1所述的光產酸劑，其特征在于，所述光產酸劑具有選自下組的一個或多個特征：

1)所述光產酸劑的擴散距離≤5nm；

2)1g所述光產酸劑經波長為193nm的光照曝光后其揮發率≤20％。

9.一種權利要求1所述光產酸劑的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

在惰性溶劑中，將高分子骨架化合物與產酸活性基團的共價鍵合的前體進行反應，從而形成所述光產酸劑：

高分子骨架化合物+產酸活性基團的共價鍵合的前體→光產酸劑。

10.一種復合材料，其特征在于，所述復合材料包含權利要求1所述光產酸劑或由權利要求1所述光產酸劑構成。