[發明專利]一種中空多孔型阿特拉津分子印跡材料的制備方法有效
| 申請號： | 201611121567.X | 申請日： | 2016-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN106632809B | 公開（公告）日： | 2019-05-03 |
| 發明（設計）人： | 劉駿;楊明;梅運軍 | 申請（專利權）人： | 武漢輕工大學 |
| 主分類號： | C08F220/14 | 分類號： | C08F220/14;C08F222/14;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/28 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 430023 湖北省武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 分子印跡材料 制備 多孔型 通過性 中空 碳酸鈣 填充物 材料成本 固相萃取 聚合載體 擴展應用 酸洗過程 吸附能力 印跡材料 制備過程 中空型 點位 負壓 投料 洗脫 萃取 | ||
【權利要求書】：
1.一種中空多孔型阿特拉津分子印跡材料的制備方法，其特征在于包含以下步驟：a.投料：將一定量的模板分子、功能單體MMA充分混合2h，再加入一定量交聯劑EGDMA、引發劑AIBN和研磨后的碳酸鈣粉末，再加入一定體積的乙腈；b.反應：將混合溶液超聲混合脫氣20分鐘后，通入氮氣去除溶解氧，并在氮氣保護下密封，在65℃、充分攪拌的條件下，聚合反應12個小時；c.洗脫：聚合物用甲醇/乙酸進行12個小時的索氏提取，洗脫去模板分子，溶解掉碳酸鈣顆粒；最后在50℃條件下進行真空干燥，進行適當研磨后密封裝樣保存，即得到中空型分子印跡材料。
2.根據權利要求1所述的一種中空多孔型阿特拉津分子印跡材料的制備方法，其特征在于所述的反應體系中加入了碳酸鈣作為聚合核心。
3.根據權利要求1所述的一種中空多孔型阿特拉津分子印跡材料的制備方法，其特征在于所述的碳酸鈣用量與交聯劑用量質量比為1∶6。
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