[發(fā)明專利]一種基于表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)檢測(cè)方法和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611119618.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106770319B | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉泉;胡楊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 劉泉;胡楊 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京英特普羅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11015 | 代理人: | 林彥之 |
| 地址: | 201801 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光闌 光電探測(cè)器 桔皮效應(yīng) 反射光 半反半透鏡 方法和裝置 表面反射 成像特性 第二檢測(cè) 入射光 光源 被測(cè)物體表面 成像探測(cè)器 檢測(cè)結(jié)果 檢測(cè)裝置 模擬人眼 準(zhǔn)確測(cè)量 檢測(cè) 直觀 視覺 | ||
1.一種基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:包括第一檢測(cè)裝置和第二檢測(cè)裝置,
所述第一檢測(cè)裝置包括第一光源(1),設(shè)置在第一光源(1)入射光路線上的第一光闌(2),設(shè)置在第一光源(1)反射光路線上的第一光電探測(cè)器(4),所述第一光電探測(cè)器(4)前設(shè)置有第二光闌(3);
所述第二檢測(cè)裝置包括第二光源(5),設(shè)置在第二光源(5)入射光路線上的第三光闌(6),設(shè)置在第二光源(5)反射光路線上的半反半透鏡(7),反射光經(jīng)過半反半透鏡(7)后形成兩條路徑,第一條路徑上設(shè)置有成像探測(cè)器(9),所述成像探測(cè)器(9)前設(shè)置有第四光闌(8),用于獲得被測(cè)物體表面的光學(xué)圖像;第二條路徑上設(shè)置有第二光電探測(cè)器(11),所述第二光電探測(cè)器(11)前設(shè)置有第五光闌(10),用于獲得被測(cè)物體表面的光學(xué)輪廓;
其中,所述光學(xué)輪廓為一維強(qiáng)度信號(hào),所述光學(xué)圖像為二維強(qiáng)度信號(hào);
對(duì)所述光學(xué)輪廓的一維強(qiáng)度信號(hào)作快速傅立葉變換,得到光學(xué)輪廓的一維頻譜信號(hào),對(duì)光學(xué)圖像的二維強(qiáng)度信號(hào)作快速傅立葉變換,得到光學(xué)圖像的二維頻譜信號(hào),統(tǒng)計(jì)所述光學(xué)輪廓的一維頻譜信號(hào)和所述光學(xué)圖像的二維頻譜信號(hào)中長(zhǎng)波和短波的數(shù)量,劃分后的所述長(zhǎng)波和所述短波數(shù)量投影變化到參考參數(shù)范圍內(nèi),對(duì)比該參考參數(shù)范圍與標(biāo)準(zhǔn)桔皮板參數(shù),得到最終的桔皮效應(yīng)評(píng)價(jià)指標(biāo)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第二光闌(3)的尺寸可調(diào),通過調(diào)整第二光闌(3)的直徑大小來改變第二光闌(3)的面積,所述第一光電探測(cè)器(4)接收被測(cè)物體表面的能量與第二光闌(3)的面積成正比例。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第二光闌(3)是由多個(gè)相互重疊的弧形金屬薄片組成,通過外部控制系統(tǒng)控制相互重疊的弧形金屬薄片之間的離合來實(shí)現(xiàn)第二光闌(3)直徑的大小調(diào)整。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:所述被測(cè)物體表面尺寸小于0.1mm的結(jié)構(gòu)使得第一光源(1)的入射光發(fā)生漫反射,所述第一光電探測(cè)器(4)檢測(cè)記錄該漫反射的能量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第二檢測(cè)裝置下方還設(shè)置有滾輪(14),所述滾輪(14)帶動(dòng)第二檢測(cè)裝置沿被測(cè)物體(15)表面運(yùn)動(dòng),用于獲得整個(gè)被測(cè)物體(15)表面的序列光學(xué)圖像和光學(xué)輪廓。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第四光闌(8)前還設(shè)置有透鏡。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于物體表面反射和成像特性的桔皮效應(yīng)的檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第一光源(1)入射角為20°,所述第二光源(5)入射角為60°。
8.一種合成權(quán)利要求5中所述序列光學(xué)圖像和光學(xué)輪廓的方法,其特征在于:包括拼接算法,所述拼接算法包括下述步驟:
步驟S11:圖像預(yù)處理,包括圖像處理的基本操作、建立圖像的匹配模板以及對(duì)圖像進(jìn)行某種變換;
步驟S12:圖像配準(zhǔn),采用一定的匹配策略,找出待拼接圖像中的模板或特征點(diǎn)在參考圖像中對(duì)應(yīng)的位置,進(jìn)而確定兩幅圖像之間的變換關(guān)系;
步驟S13:變換模型,根據(jù)模板或者特征點(diǎn)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,計(jì)算出數(shù)學(xué)模型中的各參數(shù)值,從而建立兩幅圖像的數(shù)學(xué)變換模型;
步驟S14:坐標(biāo)變換,根據(jù)建立的數(shù)學(xué)變換模型,將待拼接圖像轉(zhuǎn)換到參考圖像的坐標(biāo)系中,完成統(tǒng)一坐標(biāo)變換;
步驟S15:融合重構(gòu),將待拼接圖像的重合區(qū)域進(jìn)行融合從而得到平滑連續(xù)的光學(xué)圖像。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于劉泉;胡楊,未經(jīng)劉泉;胡楊許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611119618.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種用于分離脫落電連接器插座的密封測(cè)試裝置
- 下一篇:
- 同類專利
- 專利分類
G01 測(cè)量;測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





