[發明專利]一種光學多層梯度薄膜及其制備裝置有效
| 申請號: | 201611112817.3 | 申請日: | 2016-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN106707374B | 公開(公告)日: | 2019-05-07 |
| 發明(設計)人: | 焦志偉;李經龍;程祥;相臣;林承友;石美濃;丁玉梅;楊衛民 | 申請(專利權)人: | 北京化工大學 |
| 主分類號: | G02B1/10 | 分類號: | G02B1/10;G02B1/04;B29C48/18;B29C48/30;B29K33/00;B29K67/00;B29L7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 折射率 聚合物材料 制備裝置 波段 多層梯度薄膜 高反射 梯度膜 生產成本低 物料適應性 成型裝置 供料裝置 光學薄膜 熔融塑化 制造工藝 周期結構 單元膜 匯流器 納米級 全反射 組單元 層厚 可控 膜厚 薄膜 疊加 成型 應用 制造 保證 | ||
1.一種光學多層梯度薄膜的制備裝置,其特征在于:主要包括有熔融塑化供料裝置、匯流器、多個均勻層疊器、梯度膜厚層疊器和成型裝置,熔融塑化供料裝置、匯流器、多個均勻層疊器、梯度膜厚層疊器和成型裝置前后依次串聯,均勻層疊器有多個串聯起來,相鄰的均勻層疊器沿擠出軸線的法向旋轉90度連接,匯流器將來自兩個熔融塑化供料裝置的兩股熔體按照聚合物材料A/聚合物材料B周期結構厚度比疊合成具有兩層結構的復合熔體,匯流器與均勻層疊器對接,均勻層疊器入口熔體通道尺寸與旋轉90度的出口的熔體通道面積相同,復合熔體沿寬度方向平均分割成t等分,每一等分在均勻層疊器中繼續向前流動時旋轉90度并且展寬,在出口端相互匯流成為2×t層的疊層結構,相鄰均勻層疊器的分層數相同或不相同,所得疊層結構熔體進入下一節均勻層疊器再平均分割成m等分,則可得到2×t×m層結構熔體;以此類推可以得到層數為x的結構復合熔體;層數為x的多層復合熔體進入一個梯度膜厚層疊器,熔體沿寬度方向梯度分割,梯度膜厚層疊器出口對應的有沿厚度方向相同梯度分割的2M組,梯度膜厚層疊器出口得到2Mx層的復合熔體,每組有x層,最后與成型裝置連接;t為均勻層疊器復合熔體沿寬度方向平均分割的等分數,m為下一節均勻層疊器復合熔體沿寬度方向平均分割的等分數,x為薄膜進入梯度膜厚層疊器前的層數,x=2×t×m,t和m為不小于2的整數,x為由t和m及均勻層疊器數量決定的整數;M為光學薄膜中每個單元膜的組數,梯度膜厚層疊器將熔體沿寬度方向梯度分割成2M組,M為不小于2的整數。
2.根據權利要求1所述的一種光學多層梯度薄膜的制備裝置,其特征在于:聚合物材料A為PMMA,聚合物材料B為PET,前M組實現對紫外波段的高反射,后M組實現對紅外波段的高反射,M取4,PMMA/PET周期結構的厚度如下:第一組52.36nm/47.6nm,第二組55.66nm/50.6nm,第三組58.96nm/53.6nm,第四組62.26nm/56.6nm,第五組141.24nm/128.4nm,第六組151.25nm/137.5nm,第七組161.15nm/146.5nm,第八組171.16nm/155.6nm。
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