[發明專利]原子層沉積設備及其抽氣速率控制方法

有效

• 申請號: 201611112747.1
• 申請日: 2016-12-07
• 公開（公告）號: CN108070844B
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 吳學憲
• 申請（專利權）人: 矽碁科技股份有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/52
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 喬媛;湯在彥

1.一種抽氣速率控制方法，其特征在于，所述抽氣速率控制方法用于一原子層沉積設備，所述原子層沉積設備包含一反應室、一供氣裝置、一抽氣裝置及一并聯管路，所述供氣裝置連接至所述反應室以選擇性提供所述反應室至少二反應氣體及至少一清泄氣體，所述抽氣裝置連接至所述反應室以對所述反應室抽氣，所述并聯管路連接所述供氣裝置及所述抽氣裝置并包含一并聯控制閥門，所述供氣裝置經由所述并聯管路提供所述抽氣裝置不與所述至少二反應氣體反應的一負載氣體，所述抽氣速率控制方法包含下列步驟：

當所述供氣裝置提供所述反應室所述至少二反應氣體其中之一時，打開所述并聯控制閥門以使所述抽氣裝置同時對所述反應室及所述并聯管路抽氣；以及

當所述供氣裝置提供所述反應室所述至少一清泄氣體時，關閉所述并聯控制閥門以使所述抽氣裝置對所述反應室抽氣但不對所述并聯管路抽氣。

2.根據權利要求1所述的抽氣速率控制方法，其特征在于，所述并聯管路包含一負載腔體，用以容置所述負載氣體，所述并聯控制閥門位于所述負載腔體及所述抽氣裝置之間，當所述并聯控制閥門打開時，所述抽氣裝置對所述負載腔體抽氣，且當所述并聯控制閥門關閉時，所述抽氣裝置不對所述負載腔體抽氣。

3.根據權利要求2所述的抽氣速率控制方法，其特征在于，所述負載腔體容積為所述反應室容積的1/5到5倍。

4.根據權利要求1所述的抽氣速率控制方法，其特征在于，所述清泄氣體為氮氣或惰性氣體。

5.根據權利要求1所述的抽氣速率控制方法，其特征在于，所述負載氣體為氮氣或惰性氣體。

6.根據權利要求1所述的抽氣速率控制方法，其特征在于，所述清泄氣體及所述負載氣體均是不與所述至少二反應氣體反應的氣體。

7.一種原子層沉積設備，其特征在于，所述原子層沉積設備包含：

一反應室；

一抽氣裝置，連接至所述反應室；

一供氣裝置，包含至少三個氣源，用以提供一第一反應氣體、一第二反應氣體、一清泄氣體及一負載氣體，所述供氣裝置連接至所述反應室以選擇性提供所述反應室所述第一反應氣體、所述第二反應氣體及所述清泄氣體，所述清泄氣體及所述負載氣體均是不與所述第一反應氣體及所述第二反應氣體反應的；以及

一并聯管路，直接連接所述抽氣裝置及用以提供所述負載氣體的氣源，所述并聯管路包含一并聯控制閥門，所述供氣裝置經由所述并聯管路提供所述抽氣裝置所述負載氣體；

其中，當所述供氣裝置提供所述反應室所述第一反應氣體或所述第二反應氣體時，所述并聯控制閥門打開以使所述抽氣裝置同時對所述反應室及所述并聯管路抽氣，以及當所述供氣裝置提供所述反應室所述至少一清泄氣體時，所述并聯控制閥門關閉以使所述抽氣裝置對所述反應室抽氣但不對所述并聯管路抽氣。

8.根據權利要求7所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述并聯管路包含一負載腔體，用以容置所述負載氣體，所述并聯控制閥門位于所述負載腔體及所述抽氣裝置之間，當所述并聯控制閥門打開時，所述抽氣裝置對所述負載腔體抽氣，且當所述并聯控制閥門關閉時，所述抽氣裝置不對所述負載腔體抽氣。

9.根據權利要求8所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述負載腔體容積為所述反應室容積的1/5到5倍。

10.根據權利要求7所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述清泄氣體為氮氣或惰性氣體。

11.根據權利要求7所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述負載氣體為氮氣或惰性氣體。

12.根據權利要求7所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述清泄氣體及所述負載氣體均是不與所述第一反應氣體及所述第二反應氣體反應的氣體。