[發明專利]一種目標回光能力值校準光源發射系統有效
| 申請號: | 201611109765.4 | 申請日: | 2016-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN106654840B | 公開(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發明(設計)人: | 樊紅英;蔣澤偉;趙琦;張浩;賈靜;陳好;孟慶安;胡紹云 | 申請(專利權)人: | 西南技術物理研究所 |
| 主分類號: | H01S3/10 | 分類號: | H01S3/10;H01S3/00 |
| 代理公司: | 中國兵器工業集團公司專利中心 11011 | 代理人: | 劉東升 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 目標 能力 校準 新型 光源 發射 系統 | ||
1.一種目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,包括:光纖激光器(1)、反射準直器(2)、衰減器(3)、偏振控制器(4)、偏振分光鏡(5)同軸布置;偏振分光鏡(5)的全反射側布置同軸的第一λ/4波片(6)和波前控制器(7);與第一λ/4波片(6)和波前控制器(7)相對的另一側同軸布置變倍擴束器(11)、光束整形器(12)、二級擴束器(13);與光纖激光器(1)、反射準直器(2)、衰減器(3)和偏振控制器(4)相對的另一側布置同軸的第二λ/4波片(8)、透反射鏡(9)、波前探測器(10)。
2.如權利要求1所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述光纖激光器(1)出射的光束通過反射準直器(2)進行擴束壓縮發散角,準直后的光束進入衰減器(3)進行光強衰減,衰減器(3)采用可更換式中性衰減片,衰減倍率0dB~100dB變化。
3.如權利要求2所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述衰減后的光束經過偏振控制器(4)進行偏振選擇,經選擇的偏振光進入偏振分光鏡(5)后被全反射,反射光束通過第一λ/4波片(6)后入射到波前控制器(7)。
4.如權利要求3所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述波前控制器(7)包括液晶調制器和控制系統,液晶調制器采用高精度純相位空間光調制器。
5.如權利要求4所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,光束通過波前控制器(7)調制新的光束波前后被反射,反射光再次經過第一λ/4波片(6)后通過偏振分光鏡(5),透射后的光束經過第二λ/4波片(8)后被透反射鏡(9)部分反射,部分透射。
6.如權利要求5所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述透反射鏡(9)前表面鍍反射率α1為90%的反射膜,后表面鍍α2為99.8%的增透膜,透過光束經過波前探測器(10)進行波前探測。
7.如權利要求6所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述波前探測器(10)的前端光學系統包括雙膠合透鏡(16)和單透鏡,后端光學系統包括目鏡(18)和哈特曼傳感器(19);當測量波長為0.632um的光束時,前端光學系統和后端光學系統之間放入補償板(17)。
8.如權利要求6所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述透反射鏡(9)的反射光束再次經過第二λ/4波片(8)后改變偏振方向,經過偏振分光鏡(5)反射進入變倍擴束器(11)進行光束的擴展,經過變倍率擴展的光束進入光束整形器(12)進行光強勻化處理,經過整形的光束進入二級擴束器(13),實現多波長下工作。
9.如權利要求8所述的目標回光能力值校準光源發射系統,其特征在于,所述變倍擴束器(11)包括同軸設置的變倍組透鏡(20)、固定組透鏡(21)和補償組透鏡(22);光束整形器(12)采用開普勒型非球面鏡組整形原理,包括第一非球面透鏡(14)和第二非球面透鏡(15);二級擴束器(13)放大倍率為6×,主鏡為雙分離透鏡,次鏡為單負透鏡,次鏡將固定在電動步進位移臺上,以實現精確控制次鏡與主鏡間距離。
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