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[發(fā)明專利]磁共振成像裝置、RF勻場方法以及磁共振成像方法有效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201611106574.2 申請日: 2016-12-05
公開(公告)號: CN106940431B 公開(公告)日: 2019-09-03
發(fā)明(設(shè)計)人: 伊藤公輔;瀧澤將宏 申請(專利權(quán))人: 株式會社日立制作所
主分類號: G01R33/44 分類號: G01R33/44;G01R33/483;G01R33/387;A61B5/026;A61B5/055
代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021 代理人: 柯瑞京
地址: 日本*** 國省代碼: 日本;JP
權(quán)利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 磁共振 成像 裝置 rf 方法 以及
【說明書】:

為了MRI裝置的攝像部使用包含對第一區(qū)域進行激勵的預備RF脈沖、和對與上述第一區(qū)域不同的第二區(qū)域進行激勵的激勵RF脈沖在內(nèi)的高頻脈沖來收集NMR信號,算出對由從多個通道照射的高頻脈沖產(chǎn)生的照射磁場分布進行調(diào)整的勻場參數(shù)的勻場參數(shù)算出部對預備RF脈沖和激勵RF脈沖分別設(shè)定不同的勻場參數(shù),攝像部使用以不同的勻場參數(shù)調(diào)整后的預備RF脈沖和激勵RF脈沖來進行攝像。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁共振成像裝置(以下稱作MRI裝置),尤其涉及使用了對規(guī)定的信號進行抑制的抑制脈沖的攝像技術(shù)。

背景技術(shù)

MRI裝置是測量來自存在于生物體內(nèi)的原子核、主要為來自質(zhì)子的NMR信號,對構(gòu)成生物體組織的原子核密度(質(zhì)子密度)、NMR信號的相位信息進行圖像化的裝置。在MRI裝置中,開發(fā)有各種利用了血流質(zhì)子和靜止的組織的質(zhì)子的行為的差異的血流攝像法,進而廣泛使用了利用血流方向的不同,以比其他血流更高的亮度來描繪期望的血流的技術(shù)。例如,有對上游側(cè)或者下游側(cè)的血流質(zhì)子進行預備激勵,抑制進入到攝像區(qū)域的血流的信號,從而將靜脈和動脈分離的技術(shù)等。

在這種技術(shù)中,為了抑制來自不需要的血流的信號,使用預先使不需要的血流的質(zhì)子飽和來減弱信號的RF脈沖(稱作預飽和脈沖:presaturation pulse)。在該方法中能夠分離動脈和靜脈,但不能選擇性地僅描繪多個動脈或者靜脈之中的期望的部分。與此相對,還開發(fā)了通過RF脈沖與區(qū)域選擇傾斜磁場的組合來僅對期望的部位進行激勵的方法(2D激勵法)。例如專利文獻1中提出了以下的技術(shù):在對頭頸部的血管的行進狀態(tài)進行圖像化時,采用2D激勵法,抑制來自2個頸動脈之中的一個頸動脈的信號,僅描繪另外一個頸動脈。

另一方面,在當前的MRI裝置中,使用組合了多個小型線圈的多通道發(fā)送線圈來照射RF脈沖。在該情況下,在激勵RF脈沖中,對要進行激勵的區(qū)域,有想要使被照射的磁場(照射磁場)在空間上一致的要求。這是由于,如果在激勵磁場中存在分布,則起因于此而在來自組織的NMR信號中產(chǎn)生不均勻,就無法得到正確的質(zhì)子分布、相位信息。因此,在現(xiàn)有的MRI裝置中,預先對利用從各通道照射的RF脈沖產(chǎn)生的磁場分布進行測定,算出用于使磁場分布均勻化的校正量,對產(chǎn)生RF脈沖的RF線圈的驅(qū)動電壓疊加該校正量(專利文獻2)。該校正量被稱作RF勻場參數(shù)(以下簡稱為勻場參數(shù))。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1:國際公開201I/037064號

專利文獻2:JP特開2010-29640號公報

發(fā)明所要解決的課題

在僅描繪來自多個動脈的血流之中的期望的動脈的情況下,在上述的2D激勵法中,將特殊形狀(包絡(luò)線:envelope)的RF脈沖和傾斜磁場脈沖組合起來進行施加,僅激勵被限定的區(qū)域來進行預飽和,因此RF勻場能夠省略。但是,由于通過RF脈沖和傾斜磁場脈沖的組合來進行激勵,因此存在預飽和所需的脈沖施加時間長這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明在使用預備RF脈沖和激勵RF脈沖的攝像中,通過利用對規(guī)定的組織或者部位具有不同效果的不同的勻場參數(shù)來調(diào)整這些RF脈沖,從而不會導致脈沖施加時間的延長,能相對于兩個組織或者部位之內(nèi)的一個,以高亮度描繪出另一個。例如,針對預備RF脈沖,在由其激勵的區(qū)域中,對勻場參數(shù)進行調(diào)整,以使得成為多個部位中的一個部位相比其他部位照射磁場變小的照射磁場分布,針對激勵RF脈沖,調(diào)整勻場參數(shù)以使得被激勵的區(qū)域整體成為均勻的照射磁場分布。

發(fā)明效果

本發(fā)明適合應用于血流攝像。

附圖說明

圖1為表示應用本發(fā)明的MRI裝置的一實施方式的圖。

圖2為表示本發(fā)明中采用的發(fā)送線圈的一實施方式的圖。

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說明:

1、專利原文基于中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利說明書;

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