[發明專利]有機阻隔膜、量子點膜、背光模組與發光裝置

在審

• 申請號: 201611104346.1
• 申請日: 2016-12-05
• 公開（公告）號: CN106626574A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 方龍;康永印;鄭斌;趙飛
• 申請（專利權）人: 納晶科技股份有限公司
• 主分類號: B32B7/12
• 分類號: B32B7/12;B32B33/00;G02F1/13357
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司11240
• 代理人: 趙囡囡,吳貴明

技術領域

本申請涉及量子點材料領域，具體而言，涉及一種有機阻隔膜、量子點膜、背光模組與發光裝置。

背景技術

由于量子點的粒徑一般介于1～10nm之間，具有非常大的比表面積，表面相原子數較多，這導致了表面原子的配位不足、不飽和鍵和懸鍵增多，使這些表面原子具有高的活性，極不穩定，很容易與其它原子結合。因此，一般量子點表面需選擇合適的配體來與量子點表面的金屬配位，配體的種類對量子點的效率和穩定性具有決定性的影響。隨著量子點合成技術的發展和優化，量子點的效率和穩定性均達到了產業化的水平。但是，量子點獨特的表面效應也決定了其對水氣和氧氣的敏感性，水氣和氧氣會破壞量子點表面的配體，降低量子點的效率。量子點尺寸越小，比表面積越大，對水氣和氧氣的敏感性越高。

因此，量子點需要在隔水隔氧的條件下才能發揮其高發光效率和穩定性。與量子點復配使用的材料需要對水氣和氧氣有較好的阻隔性能。目前量子點主流的使用方法包括量子點管和量子點膜，應用在背光顯示領域，可顯著提高色域和顏色飽和度。量子點管是將量子點材料封裝在玻璃管中，而量子點膜是利用阻隔膜將量子點材料包敷在中間形成三明治結構。由于量子點膜材料的生產工藝簡單、可彎折、且能顯著提高液晶顯示的色域和顏色飽和度，量子點膜逐漸成為量子點電視的熱點材料。

然而，量子點膜材料中除了極為重要的量子點材料以外，阻隔膜也至關重要。目前主流的阻隔膜的制備方法一般為：先在聚酯膜的基材上通過蒸鍍、磁控濺射或真空化學沉積等方法鋪設無機氧化物層，再在無機氧化物層上面涂敷有機物層。這樣同時包括有機物層與無機氧化物層的阻隔膜具有較好的阻隔性能，并且，有機物層的設置一方面保護了無機氧化物層，另一方面降低了阻隔膜的表面粗糙度，提高其與其他基材的粘結性能。

上述的包括多層無機氧化物層和有機物層的阻隔膜中，無機氧化物層的厚度需控制在數十納米以下，這是為了保證阻隔膜的可彎折性能，我們稱該種阻隔膜為無機氧化物阻隔膜。這種阻隔膜需通過蒸鍍或磁控濺射或真空化學沉積等方法鋪設無機氧化物層，工藝較為復雜，成本較高，且阻隔膜在卷曲過程中易導致無機氧化物層破裂進而失去阻隔性能，逐漸成為量子點膜開發的軟肋。

發明內容

本申請的主要目的在于提供一種有機阻隔膜、量子點膜、背光模組與發光裝置，以解決現有技術中的阻隔膜的制備工藝較復雜的問題。

為了實現上述目的，根據本申請的一個方面，提供了一種有機阻隔膜，該有機阻隔膜為疊置的多層結構，該有機阻隔膜包括至少一個阻水層，至少一個阻氧層，至少一個第一粘結層，至少一個第二粘結層，至少兩個基材層，上述第一粘結層設置在一個上述基材層與上述阻水層之間，上述第二粘結層設置在上述阻氧層與一個上述基材層之間。

進一步地，上述阻水層的材料包括非極性聚合物，優選地，上述非極性聚合物選自聚三氟氯乙烯、環烯烴共聚物、聚偏氯乙烯、聚偏氯二乙烯、氟化乙丙共聚物與乙烯-醋酸乙烯共聚物中的一種或多種。

進一步地，上述阻氧層的材料包括極性聚合物，優選地，上述極性聚合物選自聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯吡咯烷酮、醋酸纖維素與硝酸纖維素中的一種或多種。

進一步地，上述有機阻隔膜還包括磨砂層和/或粘結增強層，上述磨砂層與上述粘結增強層分別作為上述有機阻隔膜的兩側的最外層。

進一步地，上述粘結增強層的材料選自丙烯酸酯、硅烷偶聯劑、磷酸酯、鈦酸鹽、鋯酸鹽與異羥肟酸中的一種或多種。

進一步地，上述磨砂層包括載體和透明顆粒，上述載體的材料選自環氧樹脂、丙烯酸酯樹脂、有機硅樹脂與聚氨酯樹脂中的一種或多種，上述透明顆粒的材料選自聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯三元共聚物與苯乙烯-丙烯腈共聚物中的一種或多種。

進一步地，上述有機阻隔膜依次包括上述粘結增強層、第一基材層、上述第一粘結層、上述阻水層、第二基材層、上述阻氧層、上述第二粘結層、第三基材層與上述磨砂層。

進一步地，各上述第一粘結層與各上述第二粘結層的材料獨立地選自環氧樹脂、丙烯酸酯樹脂、有機硅樹脂與聚氨酯樹脂中的一種或多種。

進一步地，各上述基材層的材料獨立地選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、聚醚砜、聚4-甲基戊烯、聚芳酯、聚碳酸酯與苯乙烯-丙烯腈共聚物中的一種或多種。

進一步地，上述基材層的至少一個表面經過表面處理，上述表面處理包括電暈、等離子處理或化學涂敷。