[發(fā)明專利]基于TiO2納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611102215.X | 申請(qǐng)日: | 2016-12-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106653371B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬清;占旭;陳建軍;檀滿林;張維麗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳清華大學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | H01G9/042 | 分類號(hào): | H01G9/042;H01G9/00;H01G9/20 |
| 代理公司: | 深圳青年人專利商標(biāo)代理有限公司 44350 | 代理人: | 傅俏梅 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 tio2 納米 異質(zhì)結(jié) 復(fù)合 陽(yáng)極 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極的制備方法,包括步驟:提供一透明導(dǎo)電基體;在透明導(dǎo)電基體制備鈦合金薄膜;在具有鈦合金薄膜的透明導(dǎo)電基體上制備具有金屬摻雜相的TiO2納米管陣列薄膜的前驅(qū)體;對(duì)前驅(qū)體進(jìn)行退火晶化,得到具有金屬摻雜相和非金屬摻雜相的TiO2納米管陣列薄膜;在所述TiO2納米管陣列薄膜上負(fù)載半導(dǎo)體納米顆粒,得到基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極。本發(fā)明的基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極有效地拓展了TiO2的吸收帶邊,抑制了光生電子與空穴的復(fù)合,從而使基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極具有明顯增強(qiáng)的可見(jiàn)光響應(yīng)性能以及高效的電子傳輸效率,即具有較高的可見(jiàn)光吸收效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種具有較高可見(jiàn)光吸收效率的基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極及其制備方法。
背景技術(shù)
作為n型半導(dǎo)體,TiO2納米管陣列因比表面積大、有序程度高、制備簡(jiǎn)單、成本低廉等優(yōu)點(diǎn),在光催化、太陽(yáng)電池、光解水制氫、傳感器等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用前景。
然而,TiO2的禁帶寬度較寬,約為3.2eV,使得只有小于5%的紫外光區(qū)域的太陽(yáng)通可見(jiàn)光能夠被有效吸收利用,導(dǎo)致TiO2納米管陣列對(duì)可見(jiàn)光的利用率非常低;而且,在TiO2的光電化學(xué)應(yīng)用中,光生電子和空穴容易快速?gòu)?fù)合,導(dǎo)致量子效率非常低,上述兩種問(wèn)題嚴(yán)重制約了TiO2在太陽(yáng)電池技術(shù)領(lǐng)域的實(shí)際應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施方式主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極的制備方法,所述光陽(yáng)極具有較高的可見(jiàn)光吸收和光生載流子傳輸效率。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:
提供一種基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極的制備方法,包括:
S1,提供一透明導(dǎo)電基體;
S2,在所述透明導(dǎo)電基體制備鈦合金薄膜;
S3,在具有所述鈦合金薄膜的透明導(dǎo)電基體上制備具有金屬摻雜相的TiO2納米管陣列薄膜的前驅(qū)體;
S4,對(duì)所述TiO2納米管陣列薄膜的前驅(qū)體進(jìn)行退火晶化,得到具有金屬摻雜相和非金屬摻雜相的TiO2納米管陣列薄膜;
S5,在所述具有金屬摻雜相和非金屬摻雜相的TiO2納米管陣列薄膜上負(fù)載半導(dǎo)體納米顆粒,得到基于TiO2的納米異質(zhì)結(jié)復(fù)合光陽(yáng)極。
在其中一些實(shí)施方式中,所述鈦合金薄膜包括Ti和均勻固溶于Ti 中的所述金屬摻雜相的金屬元素。
在其中一些實(shí)施方式中,所述鈦合金薄膜為10-300μm。
在其中一些實(shí)施方式中,所述步驟S4中的退火氣氛為氨氣、甲烷、硫化氫或氫氣。
在其中一些實(shí)施方式中,所述步驟S1和S2之間還包括步驟:先在透明導(dǎo)電基體上制備金屬Ti薄膜作為過(guò)渡層。
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