[發明專利]具有原位清潔能力的旋轉卡盤

有效

• 申請號: 201611097164.6
• 申請日: 2016-12-02
• 公開（公告）號: CN107017195B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 安德烈亞斯·格雷森納;彼得·斯特魯茨曼恩
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: H01L21/687
• 分類號: H01L21/687;B08B3/02
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 李獻忠;張靜

1.一種用于處理晶片狀物品的裝置，所述裝置包括：

處理室；

位于所述處理室內的旋轉卡盤，其中所述旋轉卡盤被配置為將所述晶片狀物品保持在預定處理位置；

覆蓋所述旋轉卡盤并且固定到所述旋轉卡盤的蓋，其中所述蓋與所述旋轉卡盤一起旋轉并具有中心開口；

固定噴嘴組件，其延伸到所述處理室中，使得所述固定噴嘴組件的排放端穿過所述蓋的所述中心開口，其中所述固定噴嘴組件包括沖洗噴嘴，并且其中所述沖洗噴嘴被配置成將沖洗液體從所述固定噴嘴組件徑向向外引導至所述蓋的面向下方的表面上；以及

環形蓋，其設置在所述固定噴嘴組件周圍并被構造成封閉所述處理室，其中所述環形蓋相對于所述固定噴嘴組件是固定的，

其中：

所述蓋從介于所述環形蓋的部分和所述固定噴嘴組件的部分之間的區域徑向向外延伸到所述旋轉卡盤，

所述蓋的環形中心部分使從所述固定噴嘴組件的環形噴嘴接收的氣體分離，其中所述氣體的第一部分被提供到介于所述環形蓋和所述蓋之間的第二區域，并且所述氣體的第二部分被提供到第三區域；并且

所述第三區域與所述第二區域在所述蓋的相對側上。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述沖洗噴嘴包括環形排放出口。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中所述沖洗噴嘴包括使沖洗液體從所述固定噴嘴組件徑向向外偏轉的環形肩部。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中所述蓋是圓頂形的噴頭。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中所述固定噴嘴組件還包括至少一個處理液體噴嘴，所述處理液體噴嘴被配置為將處理液體朝向所述旋轉卡盤向下引導而不首先接觸所述蓋。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中所述固定噴嘴組件還包括用于將處理氣體或液體供應到所述旋轉卡盤的中心噴嘴。

7.根據權利要求6所述的裝置，其中所述沖洗噴嘴圍繞所述中心噴嘴。

8.根據權利要求7所述的裝置，其中所述沖洗噴嘴的肩部與所述中心噴嘴的外表面一體形成。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中：

所述蓋和所述處理室的上部限定氣體分配室；并且

所述蓋包括在所述蓋的中心區域和外圍區域中的每一個中形成的多個開口，以將處理氣體從所述氣體分配室提供到所述晶片狀物品的表面。

10.根據權利要求9所述的裝置，其中所述多個開口中的每一個具有在0.3至2.0mm²范圍內的橫截面積。

11.根據權利要求9所述的裝置，其中所述多個開口包括至少20個所述開口。

12.根據權利要求9所述的裝置，其還包括位于所述固定噴嘴組件的徑向外側的至少一個氣體供應噴嘴，其中所述至少一個氣體供應噴嘴向所述氣體分配室供應所述處理氣體。

13.根據權利要求1所述的裝置，其中所述蓋的整個面向下方的表面從所述蓋的內周邊緣連續彎曲到所述蓋的外周邊緣。

14.根據權利要求1所述的裝置，其中所述沖洗噴嘴的排放出口和所述固定噴嘴組件的下側表面在位于所述蓋的所述中心開口的下端附近的邊緣處相接。

15.根據權利要求1所述的裝置，所述裝置還包括安裝在所述處理室外部的磁定子，其中:

所述旋轉卡盤包括磁轉子；并且

所述磁定子圍繞所述磁轉子延伸。