[發(fā)明專利]一種沉釩上層液生產低硅氫氧化鉻的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611096467.6 | 申請日： | 2016-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN106521154B | 公開（公告）日： | 2018-08-21 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉海田;崔傳海;郭樹志;趙華;莊立軍;趙秀媛;金紹祥;楊錦銘;李寶玉;曹坤 | 申請（專利權）人： | 中信錦州金屬股份有限公司 |
| 主分類號： | C22B3/44 | 分類號： | C22B3/44;C22B34/32 |
| 代理公司： | 錦州遼西專利事務所(普通合伙) 21225 | 代理人： | 王佳佳 |
| 地址： | 121005 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 上層 生產 氫氧化 方法 | ||
【權利要求書】：
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