[發(fā)明專利]一種常溫常壓下快速制備光電器件電極的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611096020.9
• 申請日: 2016-12-02
• 公開（公告）號: CN106784043B
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳軍;韋奕;吳曄;劉凱;曾海波
• 申請（專利權(quán)）人: 南京理工大學(xué)
• 主分類號: H01L31/0224
• 分類號: H01L31/0224;H01L33/36
• 代理公司: 南京蘇創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32273
• 代理人: 曹成俊

1.一種常溫常壓下快速制備光電器件電極的方法，其特征在于，采用激光3D打印裝置，所述激光3D打印裝置包括激光器(6)、光快門(7)、反射鏡(8)、聚焦物鏡(9)和三維電動位移臺(11)，所述光快門(7)設(shè)置在所述激光器(6)和反射鏡(8)之間，所述聚焦物鏡(9)設(shè)置在所述反射鏡(8)的反射光路上，所述聚焦物鏡(9)直射所述三維電動位移臺(11)，包括以下步驟：

1)、利用超聲清洗機(1)對基片(3)進行清洗；

2)、將步驟1)清洗完之后的所述基片(3)進行烘干并放入UV O3清洗機(4)中進行進一步清洗；

3)、將步驟2)清洗完之后的所述基片(3)放在制膜機(5)上進行制膜，得到樣品(10)；

4)、利用平移臺控制軟件對電極進行三維電動位移臺(11)移動路徑和光快門(7)開關(guān)進行編輯；

5)、打開激光器(6)，關(guān)閉光快門(7)；

6)、將步驟3)制備得到的樣品(10)放置在三維電動位移臺(11)上；

7)、通過控制三維電動位移臺(11)將樣品(10)移動到初始位置；

8)、設(shè)置所述激光器(6)的能量，打開所述光快門(7)，所述激光器(6)發(fā)出的激光經(jīng)過所述光快門(7)被所述反射鏡(8)反射，之后通過所述聚焦物鏡(9)聚焦在所述樣品(10)表面；

8)、根據(jù)步驟4)得到的三維電動位移臺(11)移動路徑和光快門(7)開關(guān)，制作出電極；

9)、利用超聲清洗機(1)對步驟8)得到的電極進行清洗，得到光電器件電極。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫常壓下快速制備光電器件電極的方法，其特征在于，步驟1)中利用超聲清洗機(1)對所述基片(3)進行清洗包括以下步驟:

步驟1.1：將基片(3)置于燒杯(2)中，并在燒杯(2)中加入清洗溶劑；

步驟1.2：將燒杯(2)置于超聲清洗機(1)中，并加入水；

步驟1.3：打開超聲清洗機(1)進行超聲清洗。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫常壓下快速制備光電器件電極的方法，其特征在于，步驟9)中利用超聲清洗機(1)對步驟8)得到的電極進行清洗包括以下步驟：

步驟9.1：將步驟8)制作好的電極樣品置于燒杯(2)中，并在燒杯(2)中加入清洗溶劑；

步驟9.2：將燒杯(2)置于超聲清洗機(1)中，并加入水；

步驟9.3：打開超聲清洗機(1)進行超聲清洗。