[發(fā)明專(zhuān)利]一種覆銅陶瓷及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611095518.3 | 申請(qǐng)日： | 2016-12-02 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN108147832B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-07-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 邵長(zhǎng)健;林信平;徐強(qiáng);劉成臣;宋山青 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L21/48 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L21/48;C04B37/02 |
| 代理公司： | 深圳眾鼎專(zhuān)利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 44325 | 代理人： | 譚果林 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 陶瓷 及其 制備 方法 | ||
1.一種覆銅陶瓷，其特征在于，包括有氮化鋁陶瓷、改性層和銅層；
所述氮化鋁陶瓷的表面形成有氧化鋁膜；
所述改性層中包括改性顆粒，所述改性顆粒包括玻璃粉，所述改性層位于所述氧化鋁膜和銅層之間；
所述改性層部分滲入所述氧化鋁膜內(nèi)形成莫來(lái)石相。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述氮化鋁陶瓷為片狀材料，厚度為0.3～2mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述玻璃粉包括硅氧化物和硅酸鹽中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述改性顆粒還包括氧化鋁，所述玻璃粉與氧化鋁的重量組分比為：30～70：1～60。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述改性顆粒還包括氧化亞銅和銅粉，所述玻璃粉、氧化亞銅和銅粉的重量組分比為：30～70：1～30：1～30。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述改性顆粒還包括氧化鋯和二氧化錳，所述玻璃粉、氧化鋯和二氧化錳的重量組分比為：30～70：1～20：1～20。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述銅層的厚度為0.1mm～1mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅陶瓷，其特征在于，所述銅層與所述改性層接觸的一面上形成有氧化亞銅膜，所述改性層部分滲入所述氧化亞銅膜中。
9.如權(quán)利要求1～8中任意一項(xiàng)所述覆銅陶瓷的制備方法，其特征在于，包括以下操作步驟：
在氮化鋁陶瓷表面形成氧化鋁膜；
在所述氧化鋁膜表面形成改性層；其中，所述改性層中包括改性顆粒，所述改性顆粒包括玻璃粉；
在所述改性層表面形成銅層，通過(guò)熱處理使銅層、改性層與氮化鋁陶瓷結(jié)合一體。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，通過(guò)熱氧化工藝在所述氮化鋁陶瓷的表面形成氧化鋁膜。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，所述熱氧化工藝具體包括：將氮化鋁陶瓷放置于氧分壓為0.01atm～0.5atm的流動(dòng)氣氛中，以2℃/min～20℃/min的升溫速率升溫至800℃～1300℃，保溫10min～300min，然后降溫至室溫。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，在所述氧化鋁膜表面形成改性層包括：
在氧化鋁膜上覆蓋包含有所述改性顆粒的改性漿料，烘烤使改性漿料干燥，在所述氧化鋁膜表面形成改性層。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，“在所述氧化鋁膜表面形成改性層”包括：
在氧化鋁膜上覆蓋包含有所述改性顆粒的改性漿料，烘烤使改性漿料干燥；
將上述處理后的氮化鋁陶瓷置于氧分壓為0.001atm～0.5atm的流動(dòng)氣氛環(huán)境中，以2℃/min～20℃/min的升溫速率升溫至1000℃～1500℃，然后保溫10min～300min，進(jìn)而在所述氧化鋁膜表面形成改性層。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，所述改性漿料包括如下重量組分：改性顆粒40～60份，松油醇：40～60份，乙基纖維素：1～4份，鄰苯二甲酸二丁酯：3～6份和流平劑：0.2～0.5份。
15.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，所述改性漿料通過(guò)絲網(wǎng)印制印刷于所述氮化鋁陶瓷的氧化鋁膜表面，改性漿料的印刷厚度為0.5μm～50μm。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的覆銅陶瓷制備方法，其特征在于，在所述改性層表面形成銅層包括：
對(duì)銅片進(jìn)行預(yù)氧化，在銅片與改性層接觸的表面形成氧化亞銅膜；
將預(yù)氧化后的銅片覆蓋在所述改性層上；
將經(jīng)過(guò)上述處理后的氮化鋁陶瓷置于氧分壓為0～100ppm的保護(hù)氣氛中，升溫至1065℃～1083℃，然后保溫10min～180min，以使銅層、改性層與氮化鋁陶瓷結(jié)合一體。
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