[發(fā)明專利]一種真空氣氛處理裝置、樣品觀測系統(tǒng)及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611090486.8 | 申請日： | 2016-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN106783493B | 公開（公告）日： | 2018-07-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 何偉;李帥;王鵬 | 申請（專利權(quán)）人： | 聚束科技（北京）有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/18 | 分類號： | H01J37/18;H01J37/26;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人： | 張穎玲;李梅香 |
| 地址： | 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氣體控制器 吸盤 外部 抽氣系統(tǒng) 處理裝置 待測樣品 供氣系統(tǒng) 觀測系統(tǒng) 真空氣氛 粒子束 粒子束產(chǎn)生裝置 頂部設(shè)置 承載 | ||
1.一種真空氣氛處理裝置，所述裝置的頂部與外部的粒子束產(chǎn)生裝置連接，其特征在于，所述真空氣氛處理裝置包括：底部與外部的待測樣品或承載所述待測樣品的平臺接觸的吸盤、與外部的供氣系統(tǒng)連接的第一氣體控制器以及與外部的抽氣系統(tǒng)連接的第二氣體控制器；其中，
所述真空氣氛處理裝置的頂部設(shè)置有窗口，所述窗口用于使外部的粒子束進入所述真空氣氛處理裝置；
所述第一氣體控制器，用于連接所述供氣系統(tǒng)和所述吸盤；
所述第二氣體控制器，用于連接所述抽氣系統(tǒng)和所述吸盤；
所述吸盤包括：金屬波紋管、至少包括一圈彈簧的彈簧結(jié)構(gòu)和密封結(jié)構(gòu)；
所述彈簧結(jié)構(gòu)位于所述金屬波紋管的波紋內(nèi)部，用于支撐所述金屬波紋管；
所述金屬波紋管的底部與所述密封結(jié)構(gòu)連接；
所述密封結(jié)構(gòu)與所述待測樣品或承載所述待測樣品的平臺接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置，其特征在于，所述供氣系統(tǒng)向所述真空氣氛處理裝置供入的氣體為純凈氣體或混合氣體。
3.一種樣品觀測系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：帶電粒子束產(chǎn)生裝置、真空氣氛處理裝置和樣品；其中，
所述帶電粒子束產(chǎn)生裝置的鏡筒底部與所述真空氣氛處理裝置的頂部固定連接；
所述樣品或承載所述樣品的平臺與所述真空氣氛處理裝置的底部接觸；
所述真空氣氛處理裝置包括：與所述樣品或承載所述樣品的平臺接觸的吸盤、與外部的供氣系統(tǒng)連接的第一氣體控制器以及與外部的抽氣系統(tǒng)連接的第二氣體控制器；
所述真空氣氛處理裝置的頂部設(shè)置有窗口，所述窗口位于所述帶電粒子束產(chǎn)生裝置底部的第一真空窗下方，用于使所述帶電粒子束產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的粒子束通過所述第一真空窗后對所述真空氣氛處理裝置內(nèi)的樣品進行觀測；
所述第一氣體控制器，用于連接所述供氣系統(tǒng)和所述吸盤，對所述真空氣氛處理裝置供氣；
所述第二氣體控制器，用于連接所述抽氣系統(tǒng)和所述吸盤，對所述真空氣氛處理裝置抽氣；所述吸盤包括：金屬波紋管、至少包括一圈彈簧的彈簧結(jié)構(gòu)和密封結(jié)構(gòu)；
所述彈簧結(jié)構(gòu)位于所述金屬波紋管的波紋內(nèi)部，用于支撐所述金屬波紋管；
所述金屬波紋管的底部與所述密封結(jié)構(gòu)連接；
所述密封結(jié)構(gòu)與所述樣品或承載所述樣品的平臺接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述供氣系統(tǒng)向所述真空氣氛處理裝置供入的氣體為純凈氣體或混合氣體。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括至少一個探測器，所述探測器水平或傾斜位于所述真空氣氛處理裝置的內(nèi)部頂端，用于對所述粒子束作用于樣品后產(chǎn)生的信號進行探測。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括安裝于所述鏡筒外壁上的磁屏蔽裝置，所述磁屏蔽裝置的下端靠近所述密封結(jié)構(gòu)，用于對所述真空氣氛處理裝置進行磁隔離。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述平臺上安裝有多自由度的位移臺，所述位移臺用于對所述樣品進行多自由度的調(diào)節(jié)。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述平臺上安裝有加熱模塊和/或制冷模塊，用于調(diào)整所述樣品所處的環(huán)境溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述平臺上安裝有掃描透射裝置，所述掃描透射裝置內(nèi)的透射粒子探測腔的上表面設(shè)置有第二真空窗，所述透射粒子探測腔內(nèi)安裝有探測器，用于對作用于樣品后的粒子束進行探測。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括位于所述鏡筒的外側(cè)的激光雷達模塊，所述激光雷達模塊，用于在所述帶電粒子束產(chǎn)生裝置移動時，確定所述吸盤的吸取位置。
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