[發明專利]支架可調式多功能染缸在審
| 申請號: | 201611084895.7 | 申請日: | 2016-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN108132171A | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發明(設計)人: | 楊運波;董炯 | 申請(專利權)人: | 遼東學院 |
| 主分類號: | G01N1/31 | 分類號: | G01N1/31 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 118001 遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支架 染缸 凹槽底平面 可調式 載玻片 染色 沖洗 支架調節螺栓 試劑消耗量 螺栓 操作流程 缸體側壁 切片染色 實驗過程 實驗效果 儀器設備 組織細胞 傳統的 可調節 組合式 缸體 耗材 污染 | ||
1.一種支架可調式多功能染缸,其特征是:由缸體、支架和調節螺栓組成,缸體(1)上包括缸體立壁(7)、缸體側壁(11)和缸體立壁內壁(10),缸體側壁(11)上開設凹槽(12),凹槽(12)由凹槽底平面(4)和凹槽立壁(3)組成;支架(2)由支架立腳(6)、支架側壁(9)和調節螺栓(5)組成;支架(2)安放在凹槽(12)內凹槽底平面(4)上,支架立腳(6)與缸體側壁(11)配合,支架側壁(9)與凹槽立壁(3)配合,防止支架(2)攢動;載玻片(8)平放在支架(2)上,載玻片(8)處于涼片和染色工作位置。
2.根據權利要求1所述的一種支架可調式多功能染缸,其特征是:旋轉支架(2)上的調節螺栓(5),調節螺栓(5)將支架(2)的一端支離凹槽底平面(4),另一端受重力作用,仍在凹槽底平面(4),使支架(2)呈傾斜狀態,調節其旋出支架(2)的高度,變化支架(2)傾斜角;載玻片(8)放在傾斜的支架(2)上,載玻片(8)下端與缸體立壁內壁(10)接觸,防止下滑,載玻片(8)處于清洗工作位置。
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