[發(fā)明專利]一種折流盤式減沖均流盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611083960.4 | 申請日: | 2016-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN108114669B | 公開(公告)日: | 2019-12-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭德強;王璐瑤;孟凡飛;陳新;劉杰 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司撫順石油化工研究院 |
| 主分類號: | B01J8/02 | 分類號: | B01J8/02;C10G45/00;C10G47/00;C10G49/00 |
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| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 減沖 降液管 均流盤 加氫反應(yīng)器 折流盤 反應(yīng)器軸線 擋板 反應(yīng)器 分配器 上端 塔盤 底板 底板上表面 反應(yīng)器筒體 平行設(shè)置 下端開口 閑置空間 內(nèi)構(gòu)件 上封頭 斜線狀 中心點 動能 流體 流線 消減 液層 沖擊力 平行 增設(shè) 分配 | ||
1.一種折流盤式減沖均流盤,所述折流盤式減沖均流盤適用于上進(jìn)料且氣液為并流形式的固定床反應(yīng)器,并設(shè)置在反應(yīng)器閑置的上封頭內(nèi),或設(shè)置在反應(yīng)器筒體上端、頂部分配盤的上面;所述的折流盤式減沖均流盤包括塔盤和豎直設(shè)置在塔盤上的若干降液管分配器;所述降液管分配器包括降液管和固定于降液管上端的減沖盤,所述減沖盤包括底板和固定于底板上表面的平行設(shè)置的若干擋板;所述降液管的上部呈斜線狀切口,下端開口;所述的若干擋板與反應(yīng)器軸線平行或、與反應(yīng)器軸線在同一平面上,或者與反應(yīng)器軸線成一定夾角。
2.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述的若干擋板自擋板長度方向上中心點的垂線,與反應(yīng)器軸線基本垂直且呈水平線,并與其交叉。
3.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述塔盤的最外沿邊沿設(shè)置向上翻折的折邊。
4.按照權(quán)利要求1-3任一所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,在所述降液管的下部管壁上設(shè)置溢流孔。
5.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,進(jìn)一步的,所述的塔盤還包括用于支撐其的支撐梁以及用于彼此固定的塔盤連接件。
6.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,相鄰的擋板之間具有一定間距。
7.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述擋板的底沿與底板上表面存在一定縫隙。
8.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述擋板的底沿與底板上表面無縫隙。
9.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述擋板沿底沿開設(shè)若干溢流孔,溢流孔中心線距離底板上表面有一定距離。
10.按照權(quán)利要求9所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述溢流孔的形狀為圓形、半圓形、長條形、三角形及多邊形。
11.按照權(quán)利要求10所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述溢流孔的形狀為圓形、三角形或半圓形,相鄰兩條擋板開設(shè)的溢流孔通道彼此錯開布置。
12.按照權(quán)利要求9所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述的溢流孔的中心線距底板上表面的高度不大于擋板高度的30%。
13.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述降液管上端的斜線狀切口形成橢圓形截面,構(gòu)成氣相流動通道,其上端切口形成的斜線與水平線有一定夾角。
14.按照權(quán)利要求4所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述的溢流孔距離塔盤表面有一定距離。
15.按照權(quán)利要求14所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述溢流孔的總截面積為降液管截面積的10%~100%。
16.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述減沖盤與降液管的數(shù)量相同。
17.按照權(quán)利要求1所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述減沖盤的中心線與降液管軸線重合或不重合。
18.按照權(quán)利要求7所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,所述擋板條底沿與底板上表面的縫隙高度不大于50mm。
19.按照權(quán)利要求6所述的折流盤式減沖均流盤,其特征在于,相鄰擋板之間的間距為5~100mm。
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