[發明專利]一種高功率激光光斑均勻化裝置在審

申請號：	201611081561.4	申請日：	2016-11-30
公開（公告）號：	CN108121077A	公開（公告）日：	2018-06-05
發明（設計）人：	張俊祺;王文革;張奇;王闊傳;劉浩;黃賾	申請（專利權）人：	北京航天計量測試技術研究所;中國運載火箭技術研究院
主分類號：	G02B27/09	分類號：	G02B27/09
代理公司：	核工業專利中心 11007	代理人：	任超
地址：	100076 ***	國省代碼：	北京;11
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摘要：
搜索關鍵詞：	冷卻水流道高功率激光光斑均勻積分器螺釘支架
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【權利要求書】：

1.一種高功率激光光斑均勻化裝置，其特征在于：包括積分器入口(3)、基體A(6)、基體B(7)、基體C(8)、基體D(9)，其中基體A(6)、基體B(7)、基體C(8)、基體D(9)之間共同組成一個長方體，長方體位于連接調節支架(4)上，在長方體水平位置開有積分器入口(3)；在基體C(8)、基體D(9)之間有冷卻水流道A(1)，在基體C(8)、基體A(6)之間有冷卻水流道C(10)，在基體B(7)、基體D(9)有冷卻水流道B(5)。

2.根據權利要求1所述的一種高功率激光光斑均勻化裝置，其特征在于：其中基體A(6)、基體B(7)、基體C(8)、基體D(9)之間通過螺釘(2)共同組成一個長方體。

3.根據權利要求1所述的一種高功率激光光斑均勻化裝置，其特征在于：基體A(6)、基體B(7)、基體C(8)、基體D(9)的材質為無氧銅，外表面鍍鎳層。

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