[發明專利]一種真空制鹽過程中二次汽的洗汽塔裝置在審
| 申請號: | 201611081468.3 | 申請日: | 2016-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN108114577A | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 宋禮慧;張仂 | 申請(專利權)人: | 中鹽工程技術研究院有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/18 | 分類號: | B01D53/18 |
| 代理公司: | 天津盛理知識產權代理有限公司 12209 | 代理人: | 韓奎勇 |
| 地址: | 300450 天*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 直管 二次汽 格柵支撐 填料層 殼體 錐段 真空制鹽 洗汽塔 純凈氣體 殼體上部 排出裝置 噴淋彎管 一體焊接 排氣管 噴淋水 去除液 下端頭 圓筒狀 支撐板 側壁 反轉 噴淋 下錐 液滴 去除 上鋪 離子 穿過 釋放 延伸 | ||
本發明涉及一種真空制鹽過程中二次汽的洗汽塔裝置,該裝置包括上部直管,在上部直管的側壁上分別穿裝有噴淋直管及兩根噴淋彎管,在上部直管的下方一體焊接有圓筒狀錐段殼體,在錐段殼體上部安裝有格柵支撐板,在格柵支撐板上鋪設有填料層,所述上部直管的下端頭穿過填料層及格柵支撐板后延伸至錐段殼體的中部,噴淋水由下錐殼體收集并排出,上部直管釋放出的二次汽反轉180度后經由格柵支撐板及填料層去除液滴及Cl?后由排氣管排出裝置。本發明裝置可有效去除二次汽中的液滴及含有的Cl?離子,得到Cl?含量少于5ppm的純凈氣體,徹底改變了設備高成本或純度不夠的缺陷。
技術領域
本發明屬于真空制鹽過程中洗汽塔裝置技術領域,用于分離氣體中含有液體的Cl-及固體雜質的體系,特別是一種真空制鹽過程中二次汽的洗汽塔裝置。
背景技術
對于蒸發罐頂部的二次汽,需要在回收利用之前,去除氣體中含有液體的Cl-及雜質固體粒子,尤其是在真空制鹽過程中的二次氣,其中夾雜的液滴中含有大量氯化鈉,如果不能有效去除,而用來作為氣體熱源進入MVR(Mechanical Vapor Recompression),機械式蒸汽再壓縮技術的簡稱)水蒸汽入口,就會對葉輪等設備產生腐蝕,如果采用普通的濾網過濾,氣體的純度達不到要求,還是會對設備產生比較嚴重的腐蝕,如果采用目前已有的過濾裝置,不是工藝復雜,過濾成本高,就是過濾效果差,蒸汽純度不夠,給后續利用帶來危害。
發明內容
本發明的目的是針對現有技術的不足,而提出一種真空制鹽過程中二次汽的洗汽塔裝置。
本發明解決其技術問題是采取以下技術方案實現的:
一種真空制鹽過程中二次汽的洗汽塔裝置,該裝置包括上部直管,上部直管的上開口為二次汽入口,在上部直管的上部側壁上穿裝橫向的噴淋直管,在噴淋直管下方的上部直管側壁上穿裝兩根噴淋彎管,噴淋彎管的兩個噴頭在上部直管中部形成相對噴射,在上部直管的下方一體焊接有圓筒狀錐段殼體,在錐段殼體內的上部安裝有格柵支撐板,在格柵支撐板上鋪設有填料層,所述上部直管的下端頭穿過填料層及格柵支撐板后延伸至錐段殼體的中部,并由上部直管的下開口釋放出噴淋后的二次汽及噴淋水,所述噴淋水由錐段殼體下部一體制出的下錐殼體收集,在下錐殼體的底端開有液體出口,液體出口將所述噴淋水及雜質排出,所述釋放出的二次汽反轉180度后經由格柵支撐板及填料層去除液滴及Cl-后來到上部直管外側的錐段殼體頂部空間,在錐段殼體頂部空間的側壁上安裝有排氣管,排氣管將純凈二次氣體排出裝置。
而且,所述填料層具體采用316L材質的厚度為150mm。
本發明的優點和積極效果是:
1、本發明通過該洗汽塔裝置,用于分離氣液體系中含有的液體中的Cl-的氣體,得到的蒸汽純度高,可以得到Cl-含量少于5ppm的純凈氣體,尤其是溫度較高的氣體熱源,通過該工藝裝置后,得到高純度的二次蒸汽作為氣體熱源進入MVR水蒸汽入口,節約了一次蒸汽的使用量。
2、本發明裝置結構合理,工藝簡潔易于操作,徹底改變了過去眾多工藝及設備的高成本或純度不夠的缺陷,具有很高的市場推廣價值。
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本發明實施做進一步詳述,以下實施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本發明的保護范圍。
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