[發明專利]一種測量砂漿或混凝土在立式半浸條件下的膨脹性能測量的裝置及方法有效
| 申請號: | 201611080823.5 | 申請日: | 2016-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN106526147B | 公開(公告)日: | 2019-06-25 |
| 發明(設計)人: | 郭麗萍;曹園章;臧文潔;張健;丁聰 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | G01N33/38 | 分類號: | G01N33/38 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陳國強 |
| 地址: | 211189 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 橫向移動桿 縱向移動桿 位移測量裝置固定 位移測量裝置 測量砂漿 膨脹性能 底座 混凝土 測量 垂直 測量精度高 校準 試模 | ||
1.一種測量砂漿或混凝土在立式半浸條件下的膨脹性能的方法,其特征在于:步驟如下:
(1)試件預處理:預先在需要測試的試件上取測量位置,要求與校準試模的校準位置在同一高度水平,為每次測量的測點;
(2)裝置校準:將校準試模放入底座上,調整橫向移動桿、縱向移動桿,使位移測量裝置與校準試模的校準位置處于同一水平;調整位移測量裝置固定裝置,使位移測量裝置與校準試模的校準位置接觸,記錄兩支千分表讀數L0a、L0b;
(3)試件原長度測量:將養護至規定齡期的試件表面水分擦凈,放入底座上,記錄兩支位移測量裝置讀數L1a、L1b;
(4)試件變化長度測量:再次校準位移測量裝置,將校準試模放在底座上,微調位移測量裝置固定裝置,使兩支位移測量裝置讀數依然為L0a、L0b;取出達到規定侵蝕齡期的試件,將試件表面的水分擦凈,放在底座上,記錄兩支位移測量裝置讀數L2a、L2b,讀數精確至0.001mm;
(5)試件長度變化計算:ε=(L2a+L2b)-(L1a+L1b);
其中,L0a、L0b、L1a、L1b、L2a、L2b下標a、b表示兩支位移測量裝置的示數;下標0、1、2表示校準、試件原長度、試件變化長度的千分表示數;ε為負數時代表收縮,ε為正數時代表膨脹;
上述步驟通過以下裝置實現:
該裝置包括校準試模(1)、橫向移動桿(2)、縱向移動桿(3)、位移測量裝置(5)、位移測量裝置固定裝置(6)、底座(7);所述縱向移動桿(3)設置在底座(7)上,橫向移動桿(2)安裝于縱向移動桿(3)上,并相互垂直,且橫向移動桿(2)能夠相對于縱向移動桿(3)橫向移動,縱向移動桿(3)能夠相對于橫向移動桿(2)縱向移動;橫向移動桿(2)的兩端安裝有位移測量裝置固定裝置(6),且位移測量裝置固定裝置(6)能夠相對于橫向移動桿(2)橫向移動,位移測量裝置固定裝置(6)垂直于與橫向移動桿(2)和縱向移動桿(3)構成的面;所述位移測量裝置固定裝置(6)的端部固定有位移測量裝置(5);
所述的橫向移動桿(2)與縱向移動桿(3)通過十字連接件(4)連接;
所述的校準試模(1)的規格與測試試件相同或相近,其為不銹鋼制材料;
所述校準試模(1)上標記有校準位置;
所述的位移測量裝置(5)為千分表,精度為0.001mm;
所述的橫向移動桿(2)、縱向移動桿(3)、位移測量裝置固定裝置(6)和底座(7)均為不銹鋼制材料。
2.根據權利要求1所述的測量砂漿或混凝土在立式半浸條件下的膨脹性能的方法,其特征在于:所述位移測量裝置的讀數L0a、L0b、L1a、L1b、L2a、L2b精確至0.001mm。
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