[發明專利]感應的位置測量機構

有效

• 申請號: 201611078139.3
• 申請日: 2016-11-30
• 公開（公告）號: CN106969695B
• 公開（公告）日: 2019-03-08
• 發明（設計）人: M.霍伊曼;M.O.蒂曼;A.弗蘭克
• 申請（專利權）人: 約翰內斯·海德漢博士有限公司
• 主分類號: G01B7/00
• 分類號: G01B7/00;G01B7/02;G01B7/30
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊國治;張昱

1.感應的位置測量機構，用于絕對的位置測量，

所述感應的位置測量機構包括

- 標尺單元（1、100），帶有在測量方向（X）上伸延的第一測量刻度（11）和平行于所述第一測量刻度伸延的且對置于所述第一測量刻度（11）的第二測量刻度（12）；

- 掃描單元（2、2.1），其布置于在所述第一測量刻度（11）與所述第二測量刻度（12）之間的間隙中并且為了所述位置測量能夠相對于所述標尺單元（1、100）在測量方向（X）上移位，其中，所述掃描單元（2、2.1）包括第一線圈組件（21）用于掃描所述第一測量刻度（11）且用于產生取決于位置的第一掃描信號（S1、S11）并且所述掃描單元（2、2.1）包括對置于所述第一線圈組件（21）的第二線圈組件（22）用于掃描所述第二測量刻度（12）且用于產生取決于位置的第二掃描信號（S2、S21），

其特征在于，

在所述第一線圈組件（21）與所述第二線圈組件（22）之間布置有至少一個由軟磁的材料制成的中間層（6、6.1）。

2.根據權利要求1所述的感應的位置測量機構，其中，所述中間層（6）由軟磁的核芯（7）和在兩側布置在所述核芯上的不能導電的軟磁的覆層（8、9）構成。

3.根據權利要求2所述的感應的位置測量機構，其中，所述核芯（7）由軟磁的能夠導電的金屬構成。

4.根據權利要求2或3所述的感應的位置測量機構，其中，所述核芯（7）的導磁率大于所述覆層（8、9）的導磁率。

5.根據權利要求2或3所述的感應的位置測量機構，其中，所述覆層（8、9）分別包括不能導電的基體材料，軟磁的顆粒嵌入到所述基體材料中。

6.根據權利要求2或3所述的感應的位置測量機構，其中，所述核芯（7）由鋼制成并且所述覆層（8、9）分別為由磁通場定向材料制成的薄膜。

7.根據權利要求1所述的感應的位置測量機構，其中，所述中間層（6.1）包括鎳鐵高導磁合金。

8.根據權利要求1所述的感應的位置測量機構，其中，所述第一測量刻度（11）為帶有第一刻度周期（P1）的周期性的增量刻度并且所述第二測量刻度（12）為帶有第二刻度周期（P2）的周期性的增量刻度，所述第二刻度周期輕微地與所述第一刻度周期（P1）不同并且所述絕對的位置測量基于游尺原理。

9.根據權利要求8所述的感應的位置測量機構，其中，所述第一線圈組件（21）和所述第二線圈組件（22）分別具有勵磁繞組（210、220）和多個互相相位移位的周期性的掃描繞組（211、212、221、222）用于同時掃描配屬于其的測量刻度（11、12）的多個刻度周期。

10.根據權利要求1所述的感應的位置測量機構，其中，所述掃描單元（2、2.1）包括評估單元（3），所述評估單元設計成由所述取決于位置的第一掃描信號（S1、S11）和所述取決于位置的第二掃描信號（S2、S21）形成合成的絕對位置（AP）并且在輸出處提供為數字的字符。

11.根據權利要求1所述的感應的位置測量機構，其中，所述標尺單元（1）為U型材并且所述第一測量刻度（11）和所述第二測量刻度（12）彼此對置地構造在所述U型材的兩個相對彼此平行伸延的支腿處。

12.根據權利要求11所述的感應的位置測量機構，其中，所述第一測量刻度（11）和所述第二測量刻度（12）由一系列的在所述U型材的支腿中的齒和齒空隙構成。