[發明專利]一種研磨液、制備研磨液的方法和化學機械研磨方法

在審

• 申請號: 201611076134.7
• 申請日: 2016-11-29
• 公開（公告）號: CN108117841A
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發明（設計）人: 王芬;王立眾;禹菲菲;姚文磊;張歡歡
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;B24B37/00;C09K3/14
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 董巍;高偉

1.一種研磨液，其特征在于，所述研磨液包括(Fe₃N)TiO₂顆粒和溶劑，其中，(Fe₃N)TiO₂顆粒的含量為所述研磨液總重的5％至35％。

2.如權利要求1所述研磨液，其特征在于，所述(Fe₃N)TiO₂顆粒為Fe₃N核以及包覆在其外面的TiO₂殼層構成。

3.如權利要求2所述研磨液，其特征在于，所述Fe₃N核的平均粒徑為100-250nm，所述(Fe₃N)TiO₂顆粒的平均粒徑為300-450nm。

4.如權利要求1所述研磨液，其特征在于，所述溶劑為水或者乙醇。

5.如權利要求1所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液還包括金屬氧化劑，所述金屬氧化劑為H₂O₂或檸檬酸鹽，所述金屬氧化劑的含量為所述研磨液總重量的1％至10％。

6.如權利要求1所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液還包括抗沉降劑，所述抗沉降劑為聚乙二醇或聚酰胺樹脂，所述抗沉降劑含量為所述研磨液總重量的0.5％至2％。

7.如權利要求1所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液還包括表面活性劑，所述表面活性劑為Tween、Span或OP，所述表面活性劑的含量為所述研磨液總重量的0.1％至1％。

8.如權利要求1所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液還包括PH緩沖劑，所述PH緩沖劑為檸檬酸銨或乙酸銨，所述PH緩沖劑的含量為所述研磨液總重量的1％至5％。

9.一種制備研磨液的方法，包括：

制備(Fe₃N)TiO₂顆粒；

將(Fe₃N)TiO₂顆粒與溶劑混合。

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，所述制備(Fe₃N)TiO₂顆粒的步驟包括：

制備Fe₃N核；

制備TiO₂殼，所述TiO₂殼包覆所述Fe₃N核。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述制備Fe₃N核的步驟為Fe(CO)₅與NH₃的氨化熱解反應過程。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，所述反應中Fe(CO)₅的添加速率為0.5mL/min-1mL/min，所述NH₃的添加速率為4mL/min-6mL/min，反應溫度為150℃-250℃，反應時間為2-4h。

13.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述制備TiO₂殼步驟是(C₂H₅O)₄Ti、NH₃在Fe₃N核表面進行溶膠凝膠反應過程。