[發明專利]一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置有效
| 申請號: | 201611071895.3 | 申請日: | 2016-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN106526507B | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發明(設計)人: | 許慶豐;陳修霞;鄭明和;張雪镕;唐林牧;許貴琳 | 申請(專利權)人: | 上海通用衛星導航有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/00 | 分類號: | G01R33/00 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 王加貴 |
| 地址: | 200000 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚四氟乙烯片 原子磁力儀 環形薄片 交錯疊加 支架結構 透光 云母片 銫原子 弛豫 開槽 高分子材料層 薄片轉動 材料混合 穿插固定 疊加過程 互相錯開 技術效果 擴散運動 原子吸收 不透光 非透光 內圓處 室內部 通過槽 外圓周 放入 減小 圓桿 支架 照射 室內 吸收 | ||
本發明公開一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,若干個大小相同的環形薄片交錯疊加構成支架,環形薄片分別為透光的云母片和數目相同的非透光的聚四氟乙烯片,在云母片與聚四氟乙烯片的內圓處向外圓周開槽,疊加過程中相鄰的薄片轉動一定角度,使得開槽的位置互相錯開,最后通過圓桿穿插固定形成支架結構;將支架結構放入原子吸收室內,通過材料混合使用,將不透光的材料和透光的材料做成片狀并交錯疊加,這樣光既能夠通過槽照射進去,又能夠限制銫原子的擴散運動,減小銫原子與吸收室內部碰撞的幾率,達到傳統內部鍍高分子材料層的技術效果。
技術領域
本發明涉及原子磁力儀制備技術領域,特別是涉及一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置。
背景技術
在現有技術中,為了減小銫原子與吸收室器壁碰撞造成的能級改變,在吸收室內壁鍍高分子材料,例如聚四氟乙烯。此類材料的分子量遠大于銫原子,與銫原子的碰撞類似彈性碰撞,減小了銫原子通過碰撞改變能級的幾率。常用的銫吸收室規格為25mmx25mm,但是由于銫吸收室內壁鍍層的方法工藝復雜,批量生產時很難保證鍍層厚度,鍍層質量的一致性差。因此,急需一種能夠在吸收室同樣可以達到內部鍍層效果的裝置,而且制造工藝簡單,實現批量生產。
發明內容
本發明的目的是提供一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,解決現有技術中原子吸收室內部鍍層工藝復雜,不能夠批量生產的技術問題。
為實現上述目的,本發明提供了如下方案:
本發明提供了一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,包括若干透光的云母片、若干非透光的聚四氟乙烯片和圓桿,所述云母片與所述聚四氟乙烯片均為環形,在所述云母片的內圓向外側開有若干個第二矩形槽,所述第二矩形槽沿圓周對稱分布,所述聚四氟乙烯片的內圓向外側開有若干個第一矩形槽,所述第一矩形槽沿圓周對稱分布,所述第一矩形槽與所述第二矩形槽數目相同,所述云母片與所述聚四氟乙烯片互相交替疊放,所述云母片與所述聚四氟乙烯片外側圓周開有若干個連接孔,相鄰的所述云母片與所述聚四氟乙烯片旋轉一定角度使所述第一矩形槽與所述第二矩形槽互不重疊,所述連接孔沿垂直方向形成通孔,所述圓桿穿過所述連接孔后將所述云母片與所述聚四氟乙烯片固定連接。
優選的,所述第一矩形槽和所述第二矩形槽的數目均為8-12個,所述云母片和所述聚四氟乙烯片的內圓開槽部分的弧長與內圓未開槽部分的弧長相等。
優選的,所述連接孔設置在所述第一矩形槽和所述第二矩形槽的外側;
優選的,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的外圓直徑為原子吸收室的內徑,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的內圓的直徑為外圓直徑的2/5~3/5;
優選的,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的外圓直徑為25mm,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的內圓的直徑為10~15mm;
優選的,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的厚度均為0.2mm,相鄰所述云母片與所述聚四氟乙烯片的間距為0.5mm.
本發明相對于現有技術而言取得了以下技術效果:
本發明通過云母片與聚四氟乙烯片交錯疊放,而且相鄰的云母片與聚四氟乙烯片的開槽位置也互相錯開,使得不透光的聚四氟乙烯片在開槽的位置能夠通過透光云母片將光線照射進來,但是氣體分子不能通過開槽位置擴散,達到了降低氣體分子擴散速度的目的。裝置結構簡單,原材料獲取方便,加工時間短,便于批量生產,而且在使用過程中更換方便。本發明巧妙的將鍍膜的結構擴展具體化,通過材料混合使用,將不透光的材料和透光的材料做成片狀并交錯疊加,通過限制銫原子的擴散運動,減小銫原子與吸收室內部碰撞的幾率,達到內部鍍層的效果。
附圖說明
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海通用衛星導航有限公司,未經上海通用衛星導航有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611071895.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





