[發(fā)明專利]一種均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611064363.7 | 申請日: | 2016-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN106782877B | 公開(公告)日: | 2018-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 田匯冬;鄧中山;王浩然;王闖;彭宗仁;劉靜 | 申請(專利權(quán))人: | 云南科威液態(tài)金屬谷研發(fā)有限公司 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 王文君 |
| 地址: | 655400 云南省曲*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 均勻 電氣 絕緣 設(shè)備 金屬表面 電場 方法 | ||
1.一種均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,在電氣絕緣設(shè)備的金屬表面與絕緣層之間設(shè)有導(dǎo)電涂層;所述導(dǎo)電涂層是由兩種或兩種以上液態(tài)金屬制得;
所述導(dǎo)電涂層的制備方法如下:
S1、將各液態(tài)金屬原料熔化、混勻,得到粗制的液態(tài)金屬合金;
S2、向粗制的液態(tài)金屬合金中加入堿液除去制備過程中生成的氧化物,分離,得到純金屬態(tài)的液態(tài)金屬合金;
S3、將純金屬態(tài)的液態(tài)金屬合金進行微氧化處理;
S4、將S3得到的液態(tài)金屬合金噴涂在電氣絕緣設(shè)備的金屬表面形成導(dǎo)電涂層,靜置氧化即得。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述液態(tài)金屬選自鎵、銦、錫或鉍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述液態(tài)金屬選自鎵基合金、銦基合金或鉍基合金中的一種或幾種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述液態(tài)金屬選自鎵銦合金。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述鎵銦合金中鎵:銦的質(zhì)量比為3-10:1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述堿液為質(zhì)量濃度10%-30%的NaOH溶液或KOH溶液。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述微氧化處理是指將液態(tài)金屬合金氧化至氧元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)達到0.02%-0.03%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻電氣絕緣設(shè)備中金屬表面電場的方法,其特征在于,所述導(dǎo)電涂層的厚度為20μm-600μm。
9.一種電氣絕緣設(shè)備,其特征在于,在電氣絕緣設(shè)備的金屬表面與絕緣層之間設(shè)有導(dǎo)電涂層;所述導(dǎo)電涂層是由兩種或兩種以上液態(tài)金屬制得;
所述導(dǎo)電涂層的制備方法如下:
S1、將各液態(tài)金屬原料熔化、混勻,得到粗制的液態(tài)金屬合金;
S2、向粗制的液態(tài)金屬合金中加入堿液除去制備過程中生成的氧化物,分離,得到純金屬態(tài)的液態(tài)金屬合金;
S3、將純金屬態(tài)的液態(tài)金屬合金進行微氧化處理;
S4、將S3得到的液態(tài)金屬合金噴涂在電氣絕緣設(shè)備的金屬表面形成導(dǎo)電涂層,靜置氧化即得。
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