[發(fā)明專利]一種曝光設備及曝光方法

有效

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• 申請日: 2016-11-28
• 公開（公告）號: CN106527054B
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發(fā)明（設計）人: 郭光龍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,劉偉

技術領域

本發(fā)明涉及薄膜制備技術領域，特別是涉及一種曝光設備及曝光方法。

背景技術

顯示產品的高世代線生產線是用于生產32英寸以上的大尺寸產品，曝光工藝中采用的掩膜板尺寸較大，在曝光過程中掩膜板在其自身重力作用下會發(fā)生下垂，導致掩膜板與待曝光基板之間的曝光間隙不一致，從而影響曝光均一性。目前業(yè)內多采用在掩膜板的上部形成負壓方式，使掩膜板下部的壓力高于掩膜板上部的壓力，通過壓力差來支撐掩膜板，達到減輕掩膜板的下垂量，從而改善曝光均一性效果，但效果并不理想。

發(fā)明內容

本發(fā)明提供一種曝光設備及曝光方法，用以解決掩膜板在自身重力作用下會發(fā)生下垂，導致掩膜板與待曝光基板之間的曝光間隙不一致，影響曝光均一性的問題。

為解決上述技術問題，本發(fā)明實施例中提供一種曝光設備，包括工作臺和固定機構，所述固定機構用于將掩膜板固定在工作臺的上方，所述工作臺包括柔性的固定板，待曝光的基板固定放置于所述固定板的靠近掩膜板的表面上，且整個所述基板與所述固定板的表面緊密貼合，所述固定板包括至少兩個均勻分布的調整點，所述曝光設備還包括：

檢測單元，用于獲取與所述調整點和掩膜板之間的距離相關的第一參數(shù)；

驅動機構，設置在所述固定板的背離所述掩膜板的一側，用于驅動所述固定板的調整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動；

控制單元，與所述檢測單元連接，根據(jù)所述第一參數(shù)生成調整參數(shù)，并根據(jù)所述調整參數(shù)控制所述驅動機構驅動所述固定板的調整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動，使所述固定板的所有調整點與所述掩膜板之間的距離一致。

本發(fā)明實施例中提供一種曝光方法，包括利用如上所述的曝光設備對待曝光的基板進行曝光，所述曝光方法包括：

將掩膜板固定在工作臺的上方；

將待曝光的基板固定放置于固定板的靠近掩膜板的表面上，且整個所述基板與所述固定板的表面緊密貼合；

獲取與調整點和掩膜板之間的距離相關的第一參數(shù)；

根據(jù)所述第一參數(shù)生成調整參數(shù)，并根據(jù)所述調整參數(shù)控制驅動機構驅動所述固定板的調整點向靠近所述掩膜板或遠離所述掩膜板的方向移動，使所述固定板的所有調整點與所述掩膜板之間的距離一致。

本發(fā)明的上述技術方案的有益效果如下：

上述技術方案中，通過柔性的固定板來固定待曝光的基板，且整個基板與固定板緊密貼合，當固定板發(fā)生形變時，能夠帶動其上的基板發(fā)生一致的形變。從而將調整基板與掩膜板之間的曝光間隙轉換為調整固定板與掩膜板之間的距離。通過驅動固定板上的至少兩個均勻分布的調整點向靠近掩膜板或遠離掩膜板的方向移動，可以控制所有調整點與掩膜板之間的距離一致，實現(xiàn)整個固定板與掩膜板之間的距離大致一致，即，整個基板與掩膜板之間的曝光間隙一致，然后利用掩膜板對基板進行曝光，保證曝光均一性，提高產品質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1表示本發(fā)明實施例中曝光設備的結構示意圖；

圖2表示本發(fā)明實施例中固定板的俯視圖；

圖3表示本發(fā)明實施例中在調整后掩膜板、基板和固定板之間的位置關系圖。

具體實施方式

下面將結合附圖和實施例，對本發(fā)明的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。

結合圖1和圖2所示，本發(fā)明實施例中提供一種曝光設備，包括工作臺和固定機構，所述工作臺用于放置待曝光的基板3。所述固定機構用于將掩膜板2固定在工作臺的上方。所述工作臺包括柔性的固定板1，待曝光的基板3固定放置于固定板1的靠近掩膜板2的表面上，且整個基板3與固定板1的表面緊密貼合。固定板1包括至少兩個均勻分布的調整點10，通過調整點10可在對應調整點10的位置調整基板3與掩膜板2之間的間隙，使整個基板3與掩膜板2之間的曝光間隙一致，然后利用掩膜板2對基板3進行曝光，保證了曝光均一性，提高了產品質量。

為了實現(xiàn)上述目的，所述曝光設備還包括：

檢測單元4，用于獲取與調整點10和掩膜板2之間的距離相關的第一參數(shù)；