[發(fā)明專利]光學(xué)膜及其制造方法、偏振片及液晶顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611060706.2 | 申請日: | 2016-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN106896426B | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 笠原睦美;居野家浩;洼田慎;赤阪和樹;南條崇 | 申請(專利權(quán))人: | 柯尼卡美能達(dá)株式會社 |
| 主分類號: | G02B1/14 | 分類號: | G02B1/14;G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;趙雁 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 及其 制造 方法 偏振 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種光學(xué)膜,其具有包含粗糙化的表面的改性區(qū)域,
所述光學(xué)膜包含紫外線吸收劑與抗氧化劑中的至少一方和環(huán)烯烴系樹脂,
在與所述光學(xué)膜的表面垂直的切割面,將從所述粗糙化的表面沿厚度方向至0.1t的位置的區(qū)域S中的所述紫外線吸收劑與所述抗氧化劑的總計(jì)含量設(shè)為Ms,將從所述光學(xué)膜的中心沿厚度方向至±0.1t的位置的區(qū)域C中的所述紫外線吸收劑與所述抗氧化劑的總計(jì)含量設(shè)為Mc時,Mc/Ms為大于等于0.01且小于1,其中,將所述光學(xué)膜的厚度設(shè)為t,
所述光學(xué)膜所含的殘留溶劑量為100ppm~2000ppm,并且
內(nèi)部霧度值:外部霧度值=1:15~1:1000。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜,其中,所述外部霧度值為0.1~5%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)膜,其中,所述紫外線吸收劑的含量相對于所述環(huán)烯烴系樹脂為0.5~5質(zhì)量%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)膜,其中,所述殘留溶劑含有100~300ppm的甲苯。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)膜,其中,所述Mc/Ms為0.7以下。
6.一種偏振片,其中,包含權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜和配置于其設(shè)置有改性區(qū)域的面的起偏器。
7.一種液晶顯示裝置,其依次包含第一偏振片、液晶單元、第二偏振片和背光燈,
所述第一偏振片包括:第一起偏器、配置于所述第一起偏器的與所述液晶單元相反的一側(cè)的面的保護(hù)膜F1、配置于所述第一起偏器的所述液晶單元側(cè)的面的保護(hù)膜F2,
所述第二偏振片包括:第二起偏器、配置于所述第二起偏器的所述液晶單元側(cè)的面的保護(hù)膜F3、配置于所述第二起偏器的與所述液晶單元相反的一側(cè)的面的保護(hù)膜F4,
所述保護(hù)膜F1和F2的至少一方為權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜,且所述第一起偏器配置于所述光學(xué)膜的設(shè)置有改性區(qū)域的面,和/或
所述保護(hù)膜F3和F4的至少一方為權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜,且所述第二起偏器配置于所述光學(xué)膜的設(shè)置有改性區(qū)域的面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置,其中,所述保護(hù)膜F1和F2的至少一方為權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜,且所述第一起偏器配置于所述光學(xué)膜的設(shè)置有改性區(qū)域的面。
9.一種光學(xué)膜的制造方法,其中,包括如下工序:
得到環(huán)烯烴系樹脂膜的工序,所述環(huán)烯烴系樹脂膜是包含紫外線吸收劑與抗氧化劑中的至少一方和環(huán)烯烴系樹脂的膜,在與其表面垂直的切割面,將從至少一方的表面沿厚度方向至0.1t的位置的區(qū)域S中的所述紫外線吸收劑與所述抗氧化劑的總計(jì)含量設(shè)為Ms,將從所述膜的中心沿厚度方向至±0.1t的位置的區(qū)域C中所述紫外線吸收劑與所述抗氧化劑的總計(jì)含量設(shè)為Mc時,Mc/Ms為大于等于0.01且小于1,且殘留溶劑量為100ppm~2000ppm,其中,將所述膜的厚度設(shè)為t;和
使有機(jī)溶劑與構(gòu)成所述環(huán)烯烴系樹脂膜的所述區(qū)域S的面接觸而進(jìn)行溶劑處理的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)膜的制造方法,其中,所述得到環(huán)烯烴系樹脂膜的工序包括如下工序:
使所述紫外線吸收劑與抗氧化劑中的至少一方和所述環(huán)烯烴系樹脂溶解于含有70質(zhì)量%以上的良好溶劑的溶劑中得到摻雜劑的工序;
將所述摻雜劑在支撐體上流延后,使其干燥至殘留溶劑量成為1~10質(zhì)量%而得到流延膜,將該流延膜剝離而得到膜狀物的工序;和
使所述膜狀物干燥而得到環(huán)烯烴系樹脂膜的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)膜的制造方法,其中,在使所述膜狀物干燥而得到環(huán)烯烴系樹脂膜的工序中,使所述膜狀物在90~160℃干燥。
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