[發明專利]用于制備激光燒蝕微推力器圓盤狀工質的涂膜裝置

有效

• 申請號: 201611060489.7
• 申請日: 2016-11-25
• 公開（公告）號: CN106583144B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 李南雷;洪延姬;葉繼飛;文明;周偉靜
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍戰略支援部隊航天工程大學
• 主分類號: B05C1/06
• 分類號: B05C1/06;B05C13/02
• 代理公司: 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489
• 代理人: 陳超

1.一種用于制備激光燒蝕微推力器圓盤狀工質膜片的涂膜裝置，其特征在于，包括涂膜平臺和旋轉機構，其中涂膜平臺包括蓋板、平臺；旋轉機構包括支架、彈簧、螺桿、底座；

蓋板作為活動部件可自由拆卸，使用時通過螺絲固定于平臺上，與平臺的上表面緊密貼合；支架安裝在螺桿上，通過旋轉螺桿可使支架上下移動，使用時將待加工的圓盤狀工質基底放置于支架上，通過旋轉螺桿調整基底位置，直到基底上表面與蓋板接觸，保證了基底上表面和平臺表面處于同一平面內；基底位置調整好后即可將蓋板卸下，使用不同厚度刮涂刀在平臺和基底材料表面上進行工質膜制備；在螺桿上裝配有彈簧，彈簧張力作用在支架和平臺上，確保在涂膜過程中旋轉機構和涂膜平臺接觸緊密無法相對運動，保證了制備精度；螺桿下端安裝有底座，底座可與恒溫加熱器或其它調節機構連接；整個裝置采用熱導率高的金屬銅作為材質，確保裝置配合恒溫加熱器使用時具有良好的導熱性能。