[發明專利]一種用于渦輪葉片的拱型凹槽氣膜冷卻結構

有效

• 申請號: 201611060124.4
• 申請日: 2016-11-28
• 公開（公告）號: CN106593543B
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 張麗;張博倫;朱惠人;劉存良;魏建生;姚春意
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: F01D5/18
• 分類號: F01D5/18
• 代理公司: 西北工業大學專利中心61204
• 代理人: 陳星

1.一種用于渦輪葉片的拱型凹槽氣膜冷卻結構，包括壓力面拱型凹槽氣膜孔、吸力面拱型凹槽氣膜孔、內冷通道，拱型凹槽氣膜孔包括凹槽前緣、氣膜孔板、氣膜孔、凹槽后緣、圓柱弧、倒圓角，其特征在于:在氣膜孔出口部位設置有凹槽前緣與凹槽后緣，凹槽前緣與凹槽后緣組合形成拱形凹槽，位于氣膜孔板上面，凹槽前緣底部與氣膜孔出口前緣平齊，凹槽后緣與氣膜孔出口后緣平齊；凹槽前緣與凹槽后緣的底部間距為W,凹槽前緣與凹槽后緣的厚度為H；氣膜孔展向間距為S；

所述氣膜孔最小截面當量直徑D_f取值范圍為0.3～2mm，氣膜孔流向傾角θ取值范圍為30～60°,氣膜孔展向間距S取值范圍為2D_f～4D_f；凹槽前緣與凹槽后緣的厚度H取值范圍為0.5D_f～1.5D_f；

所述凹槽前緣為拱形結構,通過將橫向凹槽的底部與圓柱弧求差得到，用于求差的圓柱弧半徑R_l比凹槽前緣厚度H小0.1D_f；所述圓柱弧為四分之一圓柱；

所述凹槽后緣帶有倒圓角,倒圓角半徑R_t的取值范圍為0.3D_f～1.5D_f。

2.根據權利要求1所述的用于渦輪葉片的拱型凹槽氣膜冷卻結構，其特征在于:所述氣膜孔為圓柱氣膜孔。