[發明專利]一種可調控折射率的高分子粘合膜的制法

有效

• 申請號: 201611058419.8
• 申請日: 2016-11-27
• 公開（公告）號: CN106634644B
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 張健夫;何源源;李文斐;王丹;張興;黃榮斌
• 申請（專利權）人: 長春理工大學
• 主分類號: C09J5/02
• 分類號: C09J5/02
• 代理公司: 長春科宇專利代理有限責任公司 22001
• 代理人: 馬守忠

1.一種可調控折射率的高分子粘合膜的制法，其特征在于，步驟和條件如下：

(1)陽離子基元A溶液的制備

室溫下，將陽離子基元A和去離子水置于反應器中，攪拌均勻，得到陽離子基元A溶液；該溶液的pH為7.0～11.5，質量體積濃度為0.1～15.0mg/mL；所述的陽離子基元A是主鏈或支鏈上含有氮元素的伯胺、仲胺和叔胺的水溶性高分子；選自PEI、PDDA或PAH；

(2)陰離子基元B-B₂的溶液的制備

將陰離子基元B-B₂和去離子水置于反應器中，攪拌均勻，得到陰離子基元B-B₂溶液；陰離子基元B-B₂的B₂與B-B₂的摩爾比是0.1～99.9：100，該溶液的pH為2.5～9.0，質量體積濃度為0.1～15.0mg/mL；所述的陰離子基元B-B₂的B、B2為主鏈或支鏈上含有氧元素的水溶性高分子中任意兩種的混合物；選自PAA、PSS和PVA中的任意兩種；

(3)組裝制備n層折射率可調控高分子粘合膜A/(B-B₂)

1)待粘接零件的表面處理

若是光學零件，用無水乙醇將表面擦拭干凈；

若是非光學零件，則對其進行如下的處理：室溫下，將待粘接零件放入體積比為7:3的H₂SO₄和H₂O₂混合溶液中加熱煮沸至無氣泡冒出，取出該待粘接零件，用去離子水沖洗后吹干備用；

2)組裝n層折射率可調控的高分子粘合膜

室溫下，將表面處理過的待粘接零件依次在上述的陽離子基元A溶液、去離子水、陰離子基元B-B₂溶液、去離子水中分別浸泡0.5～30.0min作為一個浸泡周期，得到一層厚度為0.01～3.0μm的折射率可調控高分子粘合膜，記為A/(B-B₂)；每重復一個浸泡周期，增加一層厚度為0.01～3.0μm的A/(B-B₂)高分子粘合膜，重復n個浸泡周期，得到n層折射率可調控的A/(B-B₂)高分子粘合膜，所述n為自然數。

2.如權利要求1所述的一種可調控折射率的高分子粘合膜的制法，其特征在于，所述的陽離子基元A的分子量范圍為1.7×10⁴～7.5×10⁵。

3.如權利要求1所述的一種可調控折射率的高分子粘合膜的制法，其特征在于，所述的陽離子基元A溶液的質量體積濃度為0.5～10.0mg/mL。

4.如權利要求1所述的一種可調控折射率的高分子粘合膜的制法，其特征在于，所述的B、B₂分子量的范圍為2.0×10³～1.0×10⁶。

5.如權利要求1所述的一種可調控折射率的高分子粘合膜的制法，其特征在于，所述的陰離子基元B-B₂溶液的質量體積濃度為0.5～10.0mg/mL。