[發(fā)明專利]一種硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611055730.7 | 申請日： | 2016-11-25 |
| 公開（公告）號： | CN106622837B | 公開（公告）日： | 2019-06-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張志杰;王守金;張立強(qiáng);朱悅?cè)?/a>;王愛星;王彥龍 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京首鋼股份有限公司 |
| 主分類號： | B05C1/08 | 分類號： | B05C1/08;B05C13/02;B05C9/14;G01C9/00 |
| 代理公司： | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 11302 | 代理人： | 馬苗苗 |
| 地址： | 100041 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 硅鋼 氧化鎂 涂層 卷取 控制 方法 | ||
1.一種硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法，其特征在于，包括：
對上涂輥及下涂輥進(jìn)行標(biāo)定，將所述上涂輥及所述下涂輥的水平度控制在0.01mm/m以內(nèi)；
提高干燥爐燒嘴的輸出功率；
控制鋼卷卷徑計算值與鋼卷的實(shí)時直徑的偏差控制在1/1000以內(nèi)，包括：
引入鋼卷卷徑補(bǔ)償模型
所述X為卷徑計算值，所述Y為補(bǔ)償輸出值；所述XN及所述XN-1為卷徑設(shè)定值，所述N取值為正整數(shù)；所述YN及所述YN-1為補(bǔ)償設(shè)定值，所述N取值為正整數(shù)；
獲得鋼卷的實(shí)時直徑Dact；
調(diào)節(jié)補(bǔ)償輸出值Y，使卷徑計算值X與鋼卷的實(shí)時直徑Dact的偏差控制在1/1000以內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法，其特征在于，所述對上涂輥及下涂輥進(jìn)行標(biāo)定，將所述上涂輥及所述下涂輥的水平度控制在0.01mm/m以內(nèi)，包括：
(1)測量所述上涂輥的水平度，擰開所述上涂輥兩側(cè)的調(diào)節(jié)絲杠并調(diào)整使所述上涂輥的精度控制在0.01mm/m以內(nèi)，然后將所述調(diào)整絲杠緊固；
(2)測量所述下涂輥的水平度，分別點(diǎn)動下涂輥兩側(cè)的電機(jī)帶動絲杠動作，調(diào)節(jié)所述下涂輥兩側(cè)的水平度，使所述下涂輥的精度控制在0.01mm/m以內(nèi)，并標(biāo)定下涂輥兩側(cè)位置編碼器零位；
(3)使涂機(jī)進(jìn)入壓力控制模式，所述涂機(jī)給定不同的壓力，觀察所述下涂輥兩側(cè)編碼器位置的變化量；
若所述編碼器位置差值小于或等于1mm，則涂輥水平度標(biāo)定完畢；若兩側(cè)編碼器位置差值在大于1mm，則重復(fù)所述步驟(1)、步驟(2)及所述步驟(3)，直至所述編碼器位置差值小于或等于1mm。
3.如權(quán)利要求2所述的硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法，其特征在于，所述提高干燥爐燒嘴的輸出功率，包括：
提高干燥爐燒嘴的輸出功率18％-25％。
4.如權(quán)利要求3所述的硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法，其特征在于，所述提高干燥爐燒嘴的輸出功率，包括：
提高干燥爐燒嘴的輸出功率20％。
5.如權(quán)利要求2-4任一項所述的硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法，其特征在于，利用水平儀測量所述上涂輥水平度。
6.如權(quán)利要求2-4任一項所述的硅鋼氧化鎂涂層卷取塔形的控制方法，其特征在于，利用水平儀測量所述下涂輥水平度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京首鋼股份有限公司，未經(jīng)北京首鋼股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611055730.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
