[發明專利]一種雙層離心盤撒料裝置

在審

• 申請號: 201611054567.2
• 申請日: 2016-11-25
• 公開（公告）號: CN106717388A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 廖小平;郭帥印;路濟遙;鄧耀國;龍鳳英;肖澤青
• 申請（專利權）人: 廣西大學
• 主分類號: A01C15/00
• 分類號: A01C15/00
• 代理公司: 廣西南寧公平知識產權代理有限公司45104
• 代理人: 韋錦捷

1.一種雙層離心盤撒料裝置，其特征在于：包括支座、安裝在支座上的轉軸、安裝在轉軸上端的離心盤以及安裝在轉軸下端的帶輪；所述轉軸通過軸系配合可旋轉地安裝在支座上；所述離心盤包括上下同軸設置的上盤和下盤，上盤中心設有一個比下盤橫截面小的通孔，上盤上端圍繞該通孔設置有若干個直型拋料塊和若干個弧形拋料塊，直型拋料塊與弧形拋料塊間隔分布，上盤與下盤之間連接有若干根連接筋，下盤下端連接轉軸。

2.根據權利要求1所述的雙層離心盤撒料裝置，其特征在于：所述帶輪通過皮帶連接有驅動電機。

3.根據權利要求1所述的雙層離心盤撒料裝置，其特征在于：所述轉軸通過推力軸承和深溝球軸承安裝在支座上，深溝球軸承通過彈性墊圈和端蓋進行壓緊定位。