[發(fā)明專利]一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611053839.7
• 申請日: 2016-11-22
• 公開（公告）號: CN107090578B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李康;曹達(dá)華;李洪偉;楊玲;李興航;周虎
• 申請（專利權(quán)）人: 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號: C23C24/04
• 分類號: C23C24/04;A47J36/02
• 代理公司: 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212
• 代理人: 何佩英

1.一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層，其作為層狀涂層施涂在基材的表面上，其特征在于，所述導(dǎo)磁涂層由導(dǎo)磁金屬粉末通過冷噴涂工藝制成，所述導(dǎo)磁涂層的孔隙率為0.05～0.5％，所述導(dǎo)磁金屬選自Fe、Ni、Co和Fe-Si中的一種或幾種的混合，或者所述導(dǎo)磁金屬選自Fe、不銹鋼、Co和Fe-Si中的一種或幾種的混合，所述導(dǎo)磁涂層的厚度為0.1～0.6mm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層，其作為層狀涂層施涂在基材的表面上，其特征在于，所述導(dǎo)磁涂層由冷噴涂工藝制成，所述導(dǎo)磁涂層的孔隙率為0.05～0.25％。

3.一種如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在待噴涂結(jié)構(gòu)的表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述工作氣體為空氣、氦氣、氮?dú)庵械囊环N或幾種。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述冷噴涂的噴射壓力為1～3.5Mpa。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述冷噴涂的噴射溫度為573～1273K。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述冷噴涂的氣體速度為1～2.4m³/min。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述冷噴涂的導(dǎo)磁粉末輸送速度為5～15kg/h。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述冷噴涂的噴射距離為10～50mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述冷噴涂的消耗功率為15～55kW。

11.根據(jù)權(quán)利要求3至10任一項(xiàng)所述的結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，其特征在于，所述導(dǎo)磁金屬的粉末粒度為1～50μm。

12.一種鍋體，其特征在于，包括鍋本體和如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面，且位于鍋本體的側(cè)壁的下部和/或底部上。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的鍋體，其特征在于，所述鍋本體的材質(zhì)為鋁合金、不銹鋼、高強(qiáng)陶瓷、高強(qiáng)玻璃中的一種或幾種。

14.一種烹飪器具，其特征在于，包括電磁感應(yīng)線圈和如權(quán)利要求12或13所述的鍋體，所述電磁感應(yīng)線圈和所述導(dǎo)磁涂層對應(yīng)設(shè)置。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的烹飪器具，其特征在于，所述電磁感應(yīng)線圈往所述鍋體的投影為投影區(qū)，所述投影區(qū)位于所述導(dǎo)磁涂層內(nèi)，且所述投影區(qū)的區(qū)域邊緣距離所述導(dǎo)磁涂層的邊緣1mm以上。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的烹飪器具，其特征在于，所述電磁感應(yīng)線圈和所述導(dǎo)磁涂層外表面之間的間距小于10mm。