[發(fā)明專利]一種MoS2-PMMA納米復(fù)合材料在審
【權(quán)利要求書】:
1.一種MoS2-PMMA納米復(fù)合材料,制備原料包括:合成納米MoS2使用的試劑:鉬酸鈉(A.R)(上海膠體化工廠);鹽酸羥胺(A.R)、硫脲(A.R)(天津市標(biāo)準(zhǔn)科技有限公司);無水乙醇(A.R)(國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司);納米MoS2表面改性用試劑:A.R級(jí)十六烷基三甲基溴化銨(cTAB);A.R級(jí)十二烷基磺酸鈉(SDS)(上海振興化工一廠);制備復(fù)合材料的聚合物基原料:有機(jī)玻璃PMMA(商用級(jí))(上海化工一廠);輔助溶劑:乙酸乙酯(A.R)(國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MoS2-PMMA納米復(fù)合材料,其特征是MoS2-PMMA納米復(fù)合材料的制備步驟為:將4mmol鉬酸鈉溶解在60mL體積比為1:1的乙醇一水溶液中,加入8mmol鹽酸羥胺,攪拌均勻;然后加入8mmol硫脲,充分?jǐn)嚢韬髮⒃撊芤恨D(zhuǎn)移至100mL反應(yīng)釜中,經(jīng)190℃和24h合成反應(yīng)后自然降溫后減壓過濾,去離子水及乙醇各洗滌3次后的產(chǎn)物在50℃真空干燥6 h后即制得納米花狀MoS2(標(biāo)記為MoS2);為改善上述原生MoS2粒子在聚合物基中分散、相容性和相界結(jié)合效果,采用煅燒、CTAB和SDS對(duì)其進(jìn)行表面修飾改性;MoS2煅燒改性(標(biāo)記為S-MoS2)是在氮?dú)夥绽?00℃下煅燒原生MoS25h完成;有機(jī)物表面修飾改性MoS2則是在上述合成納米花狀MoS2體系中分別再添加;有一定量CTAB和SDS,并在相同合成條件下所制備的MoS2粒子,分別標(biāo)記為CTAB-MoS2和SDS-MoS2;用x射線衍射儀(D8Advance,德國(guó)Bmker公司)、場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(JEOL-JSM-6700F,日本島津公司)表征MoS2及其改性粒子的晶體結(jié)構(gòu)和形貌特征;為考察上述4種MoS2粒子與聚合物基的相容性,分別取一定量原生和改性MoS2納米粒子置于裝有20mL液體石蠟的試管中,超聲波處理30min后,再震蕩試管多次后靜置,室溫下觀察各試管中粒子沉淀分層情況,以考察4種粒子的分散穩(wěn)定性;用乙酸乙酯溶解PMMA和分散原生及其改性MoS2粉體,兩者混合并經(jīng)超聲波(KQ-100型超聲波清洗器,南京安鐸貿(mào)易有限責(zé)任公司)分散后以熱流延法制成膜材;所制膜材于80℃真空干燥24h,排除乙酸乙酯溶劑以防止其對(duì)PMMA基體的增塑作用;處理后的MoS2/PMMA膜型復(fù)合材料供結(jié)構(gòu)表征與摩擦學(xué)特性試驗(yàn)使用。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MoS2-PMMA納米復(fù)合材料,其特征是MoS2-PMMA納米復(fù)合材料的檢測(cè)步驟為:用SFT-2M銷盤式可控氣氛摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)(蘭州中科凱華科技開發(fā)有限公司),測(cè)定原生及其改性MoS2納米粒子、PMMA及其與上述4種MoS2納米粒子構(gòu)成的系列復(fù)合材料干摩擦狀態(tài)下的摩擦系數(shù).摩擦實(shí)驗(yàn)條件:相對(duì)濕度RH為45%-50%,溫度為25℃,大氣環(huán)境,對(duì)偶件試樣為直徑3mm、硬度6lHRC的GCrl5軸承鋼球,法向載荷為50 N,轉(zhuǎn)速為50r/min,摩擦?xí)r間為10min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MoS2-PMMA納米復(fù)合材料,其特征是用液相溶劑熱合成與改性技術(shù)制備納米級(jí)MoS2作為減磨與增強(qiáng)劑,選擇摩擦磨損性能差的PMMA為聚合物基考察對(duì)象,經(jīng)超聲分散與溶液熱流延技術(shù)制備MoS2/PMMA納米復(fù)合材料,可以開發(fā)耐磨自潤(rùn)滑型聚合物基復(fù)合材料;與190℃、24 h條件下水熱合成的原生花狀MoS2納米粒子相比,十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)和十二烷基磺酸鈉(SDS)表面修飾改性后呈自潤(rùn)滑片、層狀結(jié)構(gòu)的MoS2粒子和氮?dú)庵?00℃煅燒活化改性MoS2粒子的摩擦系數(shù)均顯著降低;其中,CTAB表面修飾改性效果最為明顯,摩擦系數(shù)只有0.234,比原生花狀構(gòu)造MoS2降低了67%;PMMA摩擦系數(shù)高達(dá)0.65,受偶件剪切摩擦力作用下極易因大分子鏈發(fā)生滑移斷裂所造成的粘著磨損;引入MoS2納米粒子后,無論其是花狀還是自潤(rùn)滑片層狀結(jié)構(gòu),復(fù)合材料摩擦系數(shù)均大幅降低,降幅達(dá)50%以上,并有隨MoS2加入量并增的趨勢(shì).CTAB表面修飾改性的MoS2對(duì)聚合物基PMMA的減摩效果最佳,加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)5%其摩擦系數(shù)降幅達(dá)73%,比加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)20%的原生花狀MoS2效果還好。
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