[發明專利]硅片插片裝置、硅片清洗設備以及硅片清洗方法

在審

• 申請號: 201611044801.3
• 申請日: 2016-11-24
• 公開（公告）號: CN108109935A
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發明（設計）人: 魏超鋒;郭江濤;鄧浩;張濟蕾;曹明奇;梁剛
• 申請（專利權）人: 隆基綠能科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677;H01L31/18
• 代理公司: 西安弘理專利事務所 61214
• 代理人: 鐘歡

1.硅片插片裝置，包括相連通的上料單元(1)和插片單元(2)，所述上料單元(1)將硅片逐片傳輸至所述插片單元(3)，其特征在于，所述硅片插片裝置還包括位于所述上料單元(1)與所述插片單元(3)之間的清潔單元(2)，所述清潔單元(2)對進入所述插片單元(3)前的硅片進行清潔處理。

2.如權利要求1所述的硅片插片裝置，其特征在于，所述清潔單元(2)包括至少一個清潔部，每個所述清潔部均包括相對設置的清潔傳送結構(23)及刷洗結構，所述清潔傳送結構(23)接收并傳輸來自所述上料單元(1)的硅片至所述插片單元(3)，所述刷洗結構對所述硅片表面進行逐片刷洗處理。

3.如權利要求2所述的硅片插片裝置，其特征在于，所述刷洗結構包括多個間隔設置的毛刷輥(240)，所述毛刷輥(240)包括轉動輥(241)及環繞所述轉動輥(241)設置的刷頭(242)。

4.如權利要求3所述的硅片插片裝置，其特征在于，所述清潔部還包括與所述清潔傳送結構(23)相對設置的噴液結構，所述噴液結構包括至少一個噴液管(250)，所述噴液管(250)與所述毛刷輥(240)交替設置。

5.如權利要求4所述的硅片插片裝置，其特征在于，所述噴液管(250)與清潔傳送結構(23)相對的一側設有噴液孔(251)，所述噴液管(250)可繞其自身的軸線轉動。

6.如權利要求3所述的硅片插片裝置，其特征在于，所述清潔部還包括多個擠壓輥(26)，每個所述擠壓輥(26)均與所述毛刷輥(25)相鄰設置。

7.如權利要求2-6中任一項所述的硅片插片裝置，其特征在于，所述清潔單元包括至少兩個依次設置的清潔部，相鄰的兩個清潔部中，一個清潔部用于清潔硅片的第一表面，另一個清潔部用于清潔硅片與第一表面相對的第二表面。

8.硅片清洗設備，其特征在于，包括硅片清洗裝置(101)及如權利要求1-7任一項所述的硅片插片裝置，所述硅片清洗裝置(101)為槽式清洗裝置。

9.如權利要求8所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述硅片清洗裝置(101)包括酸洗槽和/或堿洗槽以及純水槽。

10.硅片清洗方法，其特征在于，利用如權利要求8或9所述的硅片清洗設備對硅片進行清洗，包括步驟：

利用所述上料單元(1)逐片傳輸硅片；

利用所述清潔單元(2)對所述硅片進行清潔處理；

將所述清潔處理后的硅片傳輸至所述插片單元(3)進行插片；

以及利用所述硅片清洗裝置(101)清洗插片處理后的硅片。