[發(fā)明專利]一種化學(xué)氣相沉積用的反應(yīng)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611044721.8 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106756890B | 公開(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許坤;曾凡光;麻華麗;杜銀霄;付林杰;霍海波;陳雷明;王玉梅;李艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C23C16/46 | 分類號(hào): | C23C16/46;C23C16/455 |
| 代理公司: | 洛陽(yáng)公信知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 炊萬庭 |
| 地址: | 450000 河*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反應(yīng)腔 隔離罩 反應(yīng)氣體 腔室 化學(xué)氣相沉積 反應(yīng)裝置 電阻絲 惰性氣體進(jìn)氣口 加熱電阻絲 惰性氣體 加熱元件 影響電阻 動(dòng)態(tài)的 排氣口 倒扣 殼體 上蓋 隔離 分割 配合 | ||
1.一種化學(xué)氣相沉積用的反應(yīng)裝置,包括反應(yīng)腔殼體和反應(yīng)腔上蓋(107),反應(yīng)腔上蓋(107)蓋設(shè)在反應(yīng)腔殼體上構(gòu)成密封的反應(yīng)腔,反應(yīng)腔上蓋(107)上設(shè)置有為反應(yīng)腔供入反應(yīng)氣體的反應(yīng)腔進(jìn)氣口(108),反應(yīng)腔殼體上加工有反應(yīng)腔出氣口(106),其特征在于:所述的反應(yīng)腔底部倒扣有隔離罩(102),通過隔離罩(102)將反應(yīng)腔分成兩個(gè)空間,隔離罩(102)內(nèi)部空間中設(shè)置有電極柱(104),電極柱(104)上連接有電阻絲(103),隔離罩(102)內(nèi)部空間中連接有惰性氣體進(jìn)氣口(105),隔離罩(102)側(cè)壁上開設(shè)有惰性氣體排氣口(109),通過惰性氣體進(jìn)氣口(105)和惰性氣體排氣口(109)配合為隔離罩(102)內(nèi)部空間中通入動(dòng)態(tài)流動(dòng)的惰性氣體,以便于通過動(dòng)態(tài)流動(dòng)的惰性氣體填充隔離罩內(nèi)部空間,并通過動(dòng)態(tài)流動(dòng)的惰性氣體阻止反應(yīng)腔內(nèi)氣體進(jìn)入隔離罩內(nèi)部空間中與電阻絲(103)反應(yīng),通過電極柱(104)與電阻絲(103)相互配合的方式加熱隔離罩內(nèi)部空間中的惰性氣體,加熱后的電阻絲(103)配合隔離罩內(nèi)部空間中加熱后的惰性氣體構(gòu)成一個(gè)熱源,隔離罩(102)遠(yuǎn)離反應(yīng)腔底部的一端上支撐有導(dǎo)熱墊(101),待加熱元件放置在導(dǎo)熱墊(101)上并通過所述熱源產(chǎn)生的熱輻射對(duì)待加熱元件進(jìn)行加熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積用的反應(yīng)裝置,其特征在于:所述的反應(yīng)腔進(jìn)氣口(108)中通入的反應(yīng)氣體流向與待加熱元件的表面垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積用的反應(yīng)裝置,其特征在于:所述的導(dǎo)熱墊(101)底部設(shè)置有與隔離罩(102)相互匹配的卡槽結(jié)構(gòu),通過卡槽結(jié)構(gòu)將導(dǎo)熱墊(101)卡設(shè)在隔離罩(102)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積用的反應(yīng)裝置,其特征在于:所述的導(dǎo)熱墊(101)采用石墨、氮化硼、氧化鋁或者石英中的至少一種制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積用的反應(yīng)裝置,其特征在于:所述的惰性氣體為氦氣或氬氣中的至少一種。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





