[發明專利]一種氧化物基涂層低輻射玻璃

在審

• 申請號: 201611043061.1
• 申請日: 2016-11-24
• 公開（公告）號: CN108101379A
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發明（設計）人: 李建銘
• 申請（專利權）人: 哈爾濱正灝建筑設備安裝工程有限公司
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氧化物基涂層低輻射玻璃，其特征在于：本發明氧化物基涂層低輻射玻璃的具體加工工藝如下：

溶液配制：配制鍍膜溶膠的前驅物一般為氯化物、金屬的醋酸鹽、乙酞丙酮化物等；溶膠的溶劑通常采用乙醇、丁醇或水等,溶劑應能使溶質有較大的溶解度,在一定溫度下的熱蒸發速率要大,能迅速揮發掉,使溶膠能在基板上沉積、分解和成膜,并且溶劑的揮發吸收的熱要小；在溶液的配制過程中,有時為了防止水解、沉淀等現象,還要加入穩定劑；霧化：鍍膜溶膠霧化的均勻性對所制備的薄膜性能有很大影響,霧化程度不同,還會對基板溫度造成不同程度的影響；法對霧化的要求是氣液比不能過大,以減少氣流對基板溫度的影響液滴微粒直徑尺寸要合適液滴出口速度必須足夠大,以滿足液滴到達基板并進行平化；液體霧化的方法有很多,在法中噴槍和超聲是實現鍍膜溶液霧化的常用手段；蒸發干燥：溶膠霧化后成為小液滴在反應爐內運動,小液滴的質量在減小,速度也在發生變化,通過對這一過程的分析研究,可得出不同大小的液滴最后到達基板表面時的速度以及液滴中溶劑含量,從而達到控制鍍膜質量的目的；液滴在反應爐內運行過程中的干燥取決于在爐內飛行的時間和蒸發干燥速率；在法鍍膜中,玻璃基板表面溫度是至關重要的因素；玻璃基板溫度高,能增加沉積速率,但是基板溫度必須低于玻璃的軟化點；許多研究文獻都對基板溫度對膜性質的影響作了詳細的研究；基板溫度較高時,玻璃表面堿金屬離子的擴散速率的增加,會對鍍膜層的性質產生影響；另外,基板溫度對薄膜的晶體生長機制、表面形態、薄膜的光學性質如透光度、顏色、電導率等都有影響。