[發明專利]感光性組合物、固化膜制法、固化膜、觸控板及顯示裝置在審
| 申請號: | 201611042313.9 | 申請日: | 2016-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN106933031A | 公開(公告)日: | 2017-07-07 |
| 發明(設計)人: | 藤木優壯;鈴木成一 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G03F7/033;G02F1/1337;G02F1/1333;G03F7/40 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感光性 組合 固化 制法 觸控板 顯示裝置 | ||
1.一種感光性組合物,其含有:
具有2個以上烯屬不飽和基團的化合物、
光聚合引發劑、
含有下述式1所示的結構單元a1及具有羧酸酐結構的結構單元a2的聚合物A1、
粒子、和
溶劑,
所述聚合物A1中的結構單元a1與結構單元a2的摩爾含量比例為a1∶a2=3∶1~6∶1的范圍,
所述聚合物A1的酸酐值為1.30~3.00mmol/g,
所述粒子的數均一次粒徑為10~200nm,
式1中,R1各自獨立地表示羥基、烷基、芳基、烷氧基、羧基或鹵原子,R2表示氫原子、烷基或芳基,n表示0~5的整數。
2.根據權利要求1所述的感光性組合物,其中,
所述聚合物A1的含量相對于感光性組合物的總固體成分為0.5~8質量%。
3.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,其中,
所述粒子的含量相對于感光性組合物的總固體成分為10~40質量%。
4.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,其中,
所述具有2個以上烯屬不飽和基團的化合物的含量相對于感光性組合物的總固體成分為30~70質量%。
5.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,其還含有阻聚劑。
6.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,
感光性組合物的相對于總固體成分的酸值為100mgKOH/g以下。
7.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,其中,
所述結構單元a2為包含五元環的環狀羧酸酐結構的結構單元。
8.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,其中,
所述結構單元a2含有下述式a2-1所示的結構單元和/或下述式a2-2所示的結構單元,
9.根據權利要求1或2所述的感光性組合物,其中,
所述結構單元a2含有下述式a2-1所示的結構單元,
10.一種固化膜的制造方法,其至少依次包括工序a~工序d:
工序a:將權利要求1或2所述的感光性組合物涂布于基板上的涂布工序;
工序b:從所涂布的感光性組合物除去溶劑的溶劑除去工序;
工序c:利用活化光線對除去溶劑后的感光性組合物的至少一部分進行曝光的曝光工序;以及
工序d:對感光性組合物進行熱處理的熱處理工序。
11.一種固化膜的制造方法,其至少依次包括工序1~工序5:
工序1:將權利要求1~9中任一項所述的感光性組合物涂布于基板上的涂布工序;
工序2:從所涂布的感光性組合物除去溶劑的溶劑除去工序;
工序3:利用活化光線對除去溶劑后的感光性組合物的至少一部分進行曝光的曝光工序;
工序4:利用水性顯影液對經曝光的感光性組合物進行顯影的顯影工序;以及
工序5:對經顯影的感光性組合物進行熱處理的熱處理工序。
12.根據權利要求11所述的固化膜的制造方法,其中,
工序5中的熱處理溫度為80~150℃。
13.一種固化膜,其是將權利要求1~9中任一項所述的感光性組合物固化而成的。
14.根據權利要求13所述的固化膜,其是層間絕緣膜或外涂膜。
15.一種觸控板,其具有權利要求13或14所述的固化膜。
16.一種顯示裝置,其具有權利要求13或14所述的固化膜。
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