[發(fā)明專利]雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中掩膜與工件的對準方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611040713.6
• 申請日: 2016-11-24
• 公開（公告）號: CN107436538B
• 公開（公告）日: 2019-03-12
• 發(fā)明（設計）人: 河東和彥;屋宜健勇
• 申請（專利權）人: 倍科有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海德昭知識產權代理有限公司 31204
• 代理人: 郁旦蓉

能夠在不移動和不轉動工件的情況下，將第一掩膜與第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜與工件進行對準?！窘鉀Q手段】具有使第一掩膜M1可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第一掩膜臺100；以及使第二掩膜M2可沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動的第二掩膜臺200，其中，第二掩膜臺200能夠在第一掩膜臺100上除第一掩膜臺100之外沿xy平面移動的同時沿xy平面轉動，并且,當?shù)谝谎谀づ_100沿xy平面移動和轉動時，隨第一掩膜臺100一同沿xy平面移動和轉。

技術領域

本發(fā)明涉及雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中掩膜與工件的對準方法。

背景技術

以往，對作為光刻對象的工件(電路基板等)的第一面、與該第一面相反側的第二面分別進行光刻的雙面光刻裝置已被廣泛使用。在這樣的雙面光刻裝置中，在將配置于工件的第一面?zhèn)鹊牡谝谎谀づc配置于工件的第二面?zhèn)鹊牡诙谀みM行對準后，再將第一掩膜以及第二掩膜與工件進行對準時，需要在第一掩膜與第二掩膜的位置關系保持不變的情況下，進行第一掩膜以及第二掩膜與工件的對準。

像這樣，作為使第一掩膜與第二掩膜的位置關系保持不變來進行第一掩膜以及第二掩膜與工件的對準的對準方法，可列舉的一例為：在將第一掩膜與第二掩膜進行對準后，先將第一掩膜按預先設定的量移動和轉動后，使該第一掩膜與工件進行對準，接著，在根據(jù)第一掩膜的移動量或轉動量來移動和轉動第二掩膜，從而使該第二掩膜與工件進行對準。

像這樣的對準控制，也就是軟件(Software)控制，其通過預先構筑用于進行對準控制的控制軟件來得以實現(xiàn)。然而，在像這樣的軟件控制過程中，即使是在用于將第一掩膜與工件進行對準控制的控制數(shù)據(jù)被恰當?shù)卦O定的情況下，有時也會發(fā)生第一掩膜臺(Table)驅動構造的運作與第二掩膜臺驅動構造的運作間產生物理性偏差的情況。

因此，如果根據(jù)用于將第一掩膜與工件進行對準控制的控制數(shù)據(jù)，從而將第二掩膜與工件進行對準的話，有可能會在當初已完成對準的第一掩膜與第二掩膜之間產生位置偏移，其結果就是，第一掩膜與第二掩膜無法高精度的完成對準。

另一方面，也有能夠在不使用上述的軟件控制，而是利用機械的運作保持第一掩膜與第二掩膜的位置關系不變，來完成第一掩膜以及第二掩膜與工件的對準的雙面光刻裝置被提出(例如，參照專利文獻1)。

專利文獻1中記載的雙面光刻裝置為：在將第一掩膜與第二掩膜的進行對準后，在將已完成對準的第一掩膜以及第二掩膜與工件進行對準時，不將第一掩膜和第二掩膜分別移動和轉動，而是將工件一側在平面上進行移動和轉動。通過這樣，就能夠在保持第一掩膜與第二掩膜的位置關系不變的情況下，將已完成對準的第一掩膜以及第二掩膜，與工件進行對準。

【先行技術文獻】

【專利文獻1】特開2013-142778號公報

發(fā)明內容

但是，如專利文獻1中記載的雙面光刻裝置般，在將第一掩膜以及第二掩膜與工件進行對準時，使用將工件一側進行移動的方法，但這種方法根據(jù)工件種類的不同，有時會有不理想的情況產生。例如，像長條片狀的工件從輸送輥推進至收卷輥，也就是在被稱為卷對卷(Roll to Roll)方式的雙面光刻裝置中，如果要將工件一側在平面上進行移動和轉動的話，由于需要將用于將工件一側在平面上進行移動和轉動的構造組配進工件的輸送構造中，因此工件的輸送構造就會變得復雜，而且，一旦將工件一側在平面上進行移動和轉動，就有可能成為工件褶皺或扭曲的成因。這樣，就存在有一旦工件產生褶皺或扭曲，就無法進行高品質的雙面光刻的課題。

本發(fā)明鑒于以上課題，以提供一種不將工件移動和轉動，同時又能夠將第一掩膜與第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜與工件進行對準的雙面光刻裝置以及雙面光刻裝置中掩膜與工件的對準方法為目的。