[發明專利]一種波長可調的熒光涂層及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201611040248.6
• 申請日: 2016-11-21
• 公開（公告）號: CN106756825B
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 李東升;劉國華;楊德仁
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/14;C09K11/59
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224
• 代理人: 胡紅娟

1.一種波長可調的熒光涂層在熒光粉以及硅基光電子器件中的應用，其特征在于，所述熒光涂層的制備方法包括如下步驟：

(1)清洗襯底，襯底清洗后加熱至450～600℃；

(2)在真空度為1×10^-5～1×10^-2Pa下，通入高純Ar和高純O₂混合氣體，利用射頻濺射對硅靶和硼靶進行反應共濺射，在襯底上沉積薄膜；

(3)惰性氣氛下，對步驟(2)得到的薄膜進行熱處理，即得到摻硼的熒光涂層；

所述熒光涂層的硼含量為1～15.1at.％；所述熒光涂層在激發下會產生650nm～410nm的熒光，最大發射熒光波長隨硼含量的變化而變化；

步驟(2)中共濺射時，硅靶的濺射功率為120～150W，硼靶的濺射功率為30～120W，濺射腔室的壓強為1Pa。

2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，所述熒光涂層的硼含量為1.5～4.5at.％時，在325nm激發波長下，所述熒光涂層的最大發射波長隨硼含量的增加從650nm逐漸移動到410nm。

3.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，所所述熒光涂層的硼含量為2.17～3.58at.％時，在325nm激發波長下，所述熒光涂層的最大發射波長隨硼含量的增加從520nm逐漸移動到459nm。

4.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(2)中高純Ar和高純O₂混合氣體中高純O₂的質量百分含量為0.01％～10％。

5.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(3)中熱處理的條件為：在600～1200℃下熱處理0～6小時。