[發明專利]高純石墨制品高結合力釉質涂層及其制備方法

在審

• 申請號: 201611037281.3
• 申請日: 2016-11-21
• 公開（公告）號: CN108083846A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發明（設計）人: 馮逸韜
• 申請（專利權）人: 馮逸韜
• 主分類號: C04B41/52
• 分類號: C04B41/52
• 代理公司: 上海諾衣知識產權代理事務所(普通合伙) 31298
• 代理人: 劉紅祥

1.高純石墨制品釉質涂層，包括中間過渡層和表面層，其特征在于，中間過渡層為Al2O3層或SiO2層；表面層為釉層。

2.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，中間過渡層厚度為0.04～0.1mm，表面層厚度為0.3-0.9mm。

3.高純石墨制品釉質涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)、將石墨制品表面拋光、清洗、干燥；

(2)、再進行熱腐蝕處理；

(3)、對熱腐蝕處理后的制品表面進行等離子噴涂Al2O3層或SiO2層；

(4)、最后再于制品表面噴涂釉料，然后在700℃～1300℃下進行燒制，保溫30～40min后自然冷卻至室溫。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，拋光后的石墨制品表面粗糙度Ra≤1.6um。

5.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述的清洗采用乙醇，所述的干燥采用壓縮空氣吹干。

6.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，石墨制品為雜質含量少于100ppm的高純石墨。

7.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，熱腐蝕處理后的石墨制品產生的凹坑最大深度為10um～15um。

8.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，Al2O3層或SiO2層中的顆粒大小均為50um～60um，純度不小于99.9％，Al2O3層或SiO2層的厚度為40um～100um。

9.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，等離子噴涂工藝參數如下：等離子氣體氬氣流量45～55slpm，等離子氣體氫氣流量5～10slqm，電流600～680A，功率45～50kW，送粉載氣氬氣流量4～5slpm，送粉速率25～35g/min，噴涂距離100～120mm，噴涂厚度為40um～100um。

10.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，步驟(4)中，釉料按質量百分比計，包括以下組分：

40％～70％的SiO2

15％～36％的Al2O3

0％～4％的ZrO2

0％～15％的CaO

0％～2.5％的Fe2O3

0％～2％的TiO2

0％～2％的MgO

0％～10％的Na2O

0％～10％的K2O。