[發(fā)明專利]連續(xù)鍍膜設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611036611.7 | 申請日： | 2016-11-23 |
| 公開（公告）號： | CN108085708A | 公開（公告）日： | 2018-05-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉品均;楊峻杰;陳松醮;蔡明展;林子平 | 申請（專利權(quán)）人： | 友威科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C23G5/00 | 分類號： | C23G5/00 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉雙;鮑俊萍 |
| 地址： | 中國臺灣桃園市*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基板 承載件 輔助電極 電極 放電端 側(cè)邊 電漿 連續(xù)鍍膜設(shè)備 電源供應(yīng) 清潔腔室 附著力 銅綠 電極設(shè)置 電性連接 鍍膜腔室 清潔 氧化銅 氧化物 腔室 去除 阻抗 載入 承載 | ||
1.一種連續(xù)鍍膜設(shè)備，包含有依序設(shè)置的一載入腔室、一電漿清潔腔室以及一鍍膜腔室，用以對一基板進(jìn)行清潔，其特征在于，該電漿清潔腔室包含有：
一用以承載該基板的承載件；
一設(shè)置于該基板遠(yuǎn)離該承載件的一側(cè)的電極；
多個輔助電極，該輔助電極設(shè)置于該電極相鄰于該承載件的一側(cè)且各具有一放電端，該放電端分別對應(yīng)于該基板的一側(cè)邊；以及
一電性連接于該電極與該輔助電極的電源供應(yīng)件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，更包含有一與該電漿清潔腔室連接的壓力控制單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，該放電端為平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，該放電端為呈三角形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，該放電端為呈梯形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，更包含有一吸附件，該吸附件通過該承載件的多個吸附孔而使該基板吸附固定于該承載件上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，該電極具有一滑軌，該輔助電極各具有一滑移件，該滑移件卡設(shè)于該滑軌內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，該電極具有多個第一卡固部，該輔助電極各具有一與該第一卡固部配合的第二卡固部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，更包含有一與該電漿清潔腔室連接的氣體供應(yīng)單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，該載入腔室與該電漿清潔腔室之間具有一第一閘門，該電漿清潔腔室與該鍍膜腔室之間具有一第二閘門。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于友威科技股份有限公司，未經(jīng)友威科技股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611036611.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
