[發明專利]一種涂布微納顆粒的方法及其設備有效

申請號：	201611036365.5	申請日：	2016-11-22
公開（公告）號：	CN106345649B	公開（公告）日：	2020-01-03
發明（設計）人：	鄭瑜;孫方穩;郭光燦	申請（專利權）人：	中國科學技術大學
主分類號：	B05B16/00	分類號：	B05B16/00
代理公司：	11227 北京集佳知識產權代理有限公司	代理人：	趙青朵
地址：	230026 安***	國省代碼：	安徽;34
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摘要：
搜索關鍵詞：	納顆粒分散涂布霧化裝置大面積基片單顆粒分散方式涂布霧化分散均勻性保證
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【說明書】：

本發明提供了一種涂布微納顆粒的方法及其設備，本發明提供的涂布微納顆粒的設備包括容霧艙以及設置在容霧艙上的霧化裝置。其中，本發明通過將微納顆粒通過霧化裝置霧化分散微納顆粒的方式涂布微納顆粒，不僅保證分散涂布結果的均勻性、單顆粒分散性和一致性，而且還能實現大面積基片的分散涂布。

技術領域

本發明涉及微納顆粒的檢測加工領域，尤其涉及一種涂布微納顆粒的方法及其設備。

背景技術

為了測量單個微納顆粒的性質或制造特別的微納結構。常需要將微納顆粒涂布在玻璃片硅片等基片上，并使大部分微納顆粒保持一個一個分散開的狀態，避免多個顆粒團聚的狀態。現在，常使用旋涂機旋涂，涂布器刮涂等方法使分散有微納顆粒的溶液在基片上形成一層液膜，待溶液揮發，在基片上留下分散的微納顆粒。但是，目前公開的這些方法存在一些問題，如：1)由于咖啡漬圈環效應，溶液揮發過程中微納顆粒追隨溶液移動聚集，使得在基片上納米顆粒的分布疏密不均，部分區域發生團聚，部分區域又過于稀疏。2)若基片與溶液不能相互浸潤，如在親水性基片上涂布油性溶液時，溶液不能在基片上形成液膜，就無法實現分散涂布微納顆粒的目的；可見，目前公開的涂布方式均勻性和單顆粒分散性較差且難以保證多次涂布的一致性。

發明內容

有鑒于此，本發明所要解決的技術問題在于提供一種涂布微納顆粒的方法及其設備，采用本發明的設備涂布微納顆粒，能夠保證微納顆粒分散涂布結果的均勻性、單顆粒分散性和一致性。

本發明提供了一種涂布微納顆粒的設備，包括：

容霧艙；

設置在容霧艙上的霧化裝置。

優選的，所述容霧艙包括底座和設置在底座上的容霧艙室罩。

優選的，所述容霧艙室罩通過卡筍固定在所述底座的卡槽上。

優選的，所述霧化裝置的出霧口設置在所述容霧艙室罩上。

優選的，所述底座上設置有基片安放槽、進氣孔和排氣孔。

優選的，所述設備上設置有與排氣孔相連通的排氣管。

優選的，所述排氣管上設置有排風扇。

優選的，所述設備上設置有與進氣孔相連通的進氣管。