[發明專利]一種核磁共振成像裝置及其線圈骨架

有效

• 申請號: 201611033760.8
• 申請日: 2016-11-22
• 公開（公告）號: CN106373699B
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發明（設計）人: 許建益;鄭杰;胡傾宇;姚鳴生;鄭有銘;莫耀敏;段訓琪;蔣祿維;張強
• 申請（專利權）人: 寧波健信核磁技術有限公司
• 主分類號: H01F6/06
• 分類號: H01F6/06;H01F6/04;G01R33/3815
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 李海建

技術領域

本發明涉及超導技術及醫療器械技術領域，特別涉及一種線圈骨架，本發明還涉及具有上述線圈骨架的一種核磁共振成像裝置。

背景技術

核磁共振成像裝置，因為其具有對患者身體不造成損害，就能夠快速獲得患者身體內部結構的高精確度立體圖像的優勢，而廣受醫療機構的青睞。

核磁共振成像磁體為核磁共振成像裝置的關鍵部件之一，為了保證核磁共振成像磁體的正常工作，需要使核磁共振成像磁體的超導線圈始終處于超導狀態，即零電阻狀態，因此需要使超導線圈處于低溫環境中。在現有技術中，給超導線圈制造低溫環境的方式，是提供一個盛裝有大量液氦的容器，并將超導線圈及固定超導線圈的線圈骨架浸沒液氦中，使得液氦時時對超導線圈進行冷卻以保證超導線圈始終處于超導狀態。但是，此種設置方式需要使用大量的液氦，而我國液氦資源短缺，需要從國外進口，大量使用價格高昂的液氦會導致核磁共振成像裝置的價格上升，同時增加了設備的維護成本，限制了核磁共振成像裝置的應用普及。

因此，如何降低核磁共振成像裝置的液氦用量，已經成為目前本領域技術人員亟待解決的問題。

發明內容

有鑒于此，本發明提供了一種線圈骨架，其能夠減少液氦的使用量，從而使核磁共振成像裝置的生產和維護成本顯著降低。本發明還提供了一種具有上述線圈骨架的核磁共振成像裝置。

為了達到上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種線圈骨架，用于固定超導線圈，所述線圈骨架的內表面和外表面之間設置有用于引導液氦以使所述液氦冷卻所述超導線圈，從而維持所述超導線圈處于超導狀態的液氦流道。

優選地，上述線圈骨架中，具有所述液氦流道的所述線圈骨架為在鑄造模具中預設金屬管道，并向所述鑄造模具中注入澆鑄材料而鑄造成型的鑄造骨架。

優選地，上述線圈骨架中，所述線圈骨架為圓筒狀，所述液氦流道包括：

多個弧形分流流道；

連通全部所述分流流道的進口，將所述液氦導入所述分流流道中的第一匯流流道，所述第一匯流流道的進口端伸出所述線圈骨架，并與液氦儲罐連通；

連通全部所述分流流道的出口，將所述分流流道內的所述液氦導出的第二匯流流道，所述第二匯流流道的出口端伸出所述線圈骨架，并與儲氣罐連通。

優選地，上述線圈骨架中，各個所述分流流道分別位于垂直于所述線圈骨架軸線的不同平面內。

優選地，上述線圈骨架中，全部所述分流流道在所述線圈骨架的軸向上等間距設置，并且全部所述分流流道的進口和出口均位于同一高度上。

優選地，上述線圈骨架中，所述第一匯流流道和所述第二匯流流道平行于所述線圈骨架的軸線設置，并分別位于所述線圈骨架的軸線所在的豎直平面的兩側。

優選地，上述線圈骨架中，所述線圈骨架為圓筒狀，所述液氦流道為設置在所述線圈骨架內的螺旋型流道。

一種核磁共振成像裝置，包括線圈骨架和超導線圈，該線圈骨架為上述的線圈骨架。

優選地，上述核磁共振成像裝置中，所述超導線圈纏繞在所述線圈骨架的所述外表面上，或鑲嵌在所述線圈骨架的所述內表面上。

本發明提供的線圈骨架，用于對超導線圈起到固定作用，此線圈骨架的改進之處在于，在線圈骨架的內表面和外表面之間的實體部位上開設液氦流道，使得液氦能夠在液氦流道中流動。當液氦在液氦流道中流動時，通過線圈骨架與液氦的熱交換，使得液氦能夠對繞制在線圈骨架上的超導線圈進行冷卻，同時，超導線圈骨架本身的熱慣性也維持了超導線圈的熱穩定性，以保證超導線圈處于超導狀態。與現有的采用大量液氦浸泡超導線圈和線圈骨架的冷卻方式相比，通過對線圈骨架進行改進，只需使用相對少量的液氦作為冷卻介質，通過液氦地流動來實現對超導線圈的冷卻，避免了因大量使用液氦而導致核磁共振成像裝置的價格上升。本發明提供的線圈骨架，能夠大大減少液氦的使用量，從而令核磁共振成像裝置的使用和維護成本顯著降低，而且也有利于簡化核磁共振成像裝置的操作。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明實施例提供的線圈骨架的結構示意圖；

圖2為線圈骨架的俯視圖；

圖3為圖2的A-A剖視圖；

圖4為圖2的B-B剖視圖；

圖5為圖4的局部放大圖。