[發明專利]低粗糙度低方阻的柔性透明導電復合薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201611028103.4
• 申請日: 2016-11-22
• 公開（公告）號: CN106782769B
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: 周軍;胡彬;方云生;李嘉
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 梁鵬

1.一種低粗糙度低方阻的柔性透明導電復合薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)準備一個基板，在該基板上涂布含有金屬納米線的溶液，以形成金屬納米線構成的透明導電網絡膜；

(2)加熱除去上述透明導電網絡膜中的溶劑，只留下金屬納米線構成的導電網絡；

(3)在基板上涂布有上述導電網絡的一面再均勻涂覆一層透明聚合物的前驅液，并原位固化形成透明聚合物薄膜；

(4)將固化后的透明聚合物薄膜從基板上剝離下來，獲得初級復合薄膜；

(5)在所述初級復合薄膜具有所述金屬納米線構成的導電網絡的一面均勻蒸鍍或涂覆透明導電層，形成具有三層復合結構的柔性透明導電復合薄膜。

2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：在步驟(1)中，所述基板為剛性玻璃、不銹鋼帶或柔性玻璃。

3.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于：在步驟(2)中，所述金屬納米線為銀納米線、銅納米線、金納米線或鉑納米線，所述金屬納米線的直徑范圍為20納米至150納米，長徑比范圍在100以上，且上述金屬納米線分散在甲醇、乙醇或包含分散劑的水中形成含有金屬納米線的溶液。

4.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于：在步驟(2)中，所述金屬納米線的涂布采用濕式涂布法，該濕式涂布法為刮涂、旋涂、噴墨印刷、噴涂印刷、噴嘴印刷、凹版印刷或篩網印刷中的一種。

5.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：在步驟(3)中，所述聚合物前驅液為改性的透明聚酰亞胺、諾蘭光學膠、聚乙烯醇、聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯中的一種。

6.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于：在步驟(4)中，所述導電網絡剝離前后表面方阻變化不高于10％，剝離后的所述導電網絡表面最大表面粗糙度不超過40納米，平均粗糙度低于15納米。

7.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于：在步驟(5)中，所述透明導電層為摻雜的金屬氧化物、導電的二維層狀材料或者透明導電聚合物；摻雜的金屬氧化物為摻氟錫氧化物、銦錫氧化物、摻鋁鋅氧化物、摻鎵鋅氧化物或摻硼鋅氧化物；導電二維層狀材料為石墨烯的分散液或二硫化鉬片的分散液；透明導電聚合物為聚(3,4-亞乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)。

8.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于：在步驟(5)中，所述摻雜的金屬氧化物鍍膜工藝采用磁控濺射、電子束蒸發、激光脈沖沉積、原子層沉積或溶膠凝膠法；所述石墨烯的分散液、二硫化鉬片的分散液或透明導電聚合物聚(3,4-亞乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)采用旋涂、刮涂或噴涂工藝涂布。