[發(fā)明專利]一種基于非均勻傅里葉變換的干涉合成孔徑顯微方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611027846.X
• 申請日: 2016-11-18
• 公開（公告）號: CN108072614A
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發(fā)明（設計）人: 高萬榮;張運旭;伍秀玭
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01N21/47
• 代理公司: 南京理工大學專利中心 32203
• 代理人: 薛云燕

1.一種基于非均勻傅里葉變換的干涉合成孔徑顯微方法，其特征在于：包括以下幾個步驟：

步驟1、光譜儀測得的干涉信號為波長空間的均勻采樣結果，對該結果進行重采樣使干涉信號從波長空間轉換到波數(shù)空間，得到在波數(shù)空間均勻分布的干涉信號數(shù)據(jù)；

步驟2、將步驟1得到的干涉信號數(shù)據(jù)，在x軸、y軸方向進行二維傅里葉變換轉換到頻域；

步驟3、對步驟2所得頻域的干涉信號進行匹配濾波；

步驟4、將干涉信號濾波后的數(shù)據(jù)，進行三維方向的非均勻傅里葉逆變換轉換到空間域；

步驟5、對空間域所得結果進行圖像增強，最終得到重構的圖像結果。

2.根據(jù)權利要求1所述的基于非均勻傅里葉變換的干涉合成孔徑顯微方法，其特征在于：步驟1中所述在波數(shù)空間均勻分布的干涉信號數(shù)據(jù)，即樣品的背向散射光和參考光的干涉信號數(shù)據(jù)，該干涉信號數(shù)據(jù)的數(shù)學模型表示為一個關于光束的橫向位置r0和波數(shù)k的函數(shù)S(r0,k)：

S ( r 0 , k ) = A ( k ) ∫ Σ d 2 r ∫ V d 3 r ′ G ( r ′ , r , k ) g ( r ′ - r 0 , k ) η ( r ′ ) g ( r - r 0 , k ) ]]>

其中，g描述高斯光束的分布特征，表示為其中W(k)＝α/k，α＝π/NA，NA是物鏡的數(shù)值孔徑；A2(k)是光源的功率譜密度，G是格林函數(shù)，且為自由空間衍射核，G(r',r,k)＝eik|r-r′|/|r-r'|，r是透鏡處的光場位置、r'為樣品散射點的位置、r0是接受到散射信號的橫向位置、η(r')是樣品散射點的散射勢。