[發(fā)明專利]電路板結(jié)構(gòu)與其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611024542.8 | 申請日: | 2016-11-18 |
| 公開(公告)號: | CN107960009A | 公開(公告)日: | 2018-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林賢杰;李明賢;許勝發(fā) | 申請(專利權(quán))人: | 南亞電路板股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/11 | 分類號: | H05K1/11;H05K3/40 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司72003 | 代理人: | 馮志云,王芝艷 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電路板 結(jié)構(gòu) 與其 制造 方法 | ||
1.一種電路板結(jié)構(gòu),包括:
一基板;
一介電層,形成于該基板之上;
一第一線路層,形成于該介電層之中,其中該第一線路層具有一上寬下窄的結(jié)構(gòu);
一導(dǎo)電襯層,形成于該第一線路層之上;以及
一第二線路層,形成于該導(dǎo)電襯層之上,其中該第二線路層通過該導(dǎo)電襯層電性連接至該第一線路層。
2.如權(quán)利要求1所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該導(dǎo)電襯層具有一粗化表面,該粗化表面直接接觸該第二線路層。
3.如權(quán)利要求2所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該粗化表面具有表面粗糙度為0.01微米至0.6微米。
4.如權(quán)利要求1所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該介電層具有一溝槽,該溝槽具有一底面寬度與一頂面寬度,該頂面寬度大于該底面寬度。
5.如權(quán)利要求4所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該第一線路層、該導(dǎo)電襯層以及該第二線路層形成于該溝槽之中。
6.如權(quán)利要求5所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該第一線路層位于該溝槽的下部份,該導(dǎo)電襯層從該溝槽的部份側(cè)壁延伸至該介電層之上,且該導(dǎo)電襯層介于該第二線路層與該介電層之間。
7.如權(quán)利要求4所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該第一線路層的高度比該溝槽的深度的比例范圍為15%至97%。
8.如權(quán)利要求1所述的電路板結(jié)構(gòu),還包括:
一導(dǎo)電層,形成于該第一線路層之下,其中該第一線路層電性連接至該導(dǎo)電層。
9.如權(quán)利要求1所述的電路板結(jié)構(gòu),其中該第二線路層的下表面寬于該第一線路層的下表面。
10.一種電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,包括以下步驟:
提供一基板;
形成一介電層于該基板之上;
移除該介電層的一部份,以于該介電層之中形成一溝槽;
填充一導(dǎo)電材料于該溝槽之中;
移除該導(dǎo)電材料的一部份,以露出該溝槽的上部分并形成一第一線路層;
形成一導(dǎo)電襯層于該溝槽的上部份的底面與側(cè)壁上;以及
形成一第二線路層于該導(dǎo)電襯層之上。
11.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,還包括:
形成一導(dǎo)電層于該基板之上,其中該第一線路層形成于該導(dǎo)電層之上。
12.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,還包括:
粗化該導(dǎo)電襯層,以使該導(dǎo)電襯層具有一粗化表面,于形成該第二線路層于該導(dǎo)電襯層之上的步驟之前。
13.如權(quán)利要求12所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中形成該第二線路層于該導(dǎo)電襯層之上包括:
形成一圖案化的光阻于該粗化表面的一部份之上,以暴露該粗化表面的其他部分;以及
形成該第二線路層于該暴露的粗化表面之上。
14.如權(quán)利要求12所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中該粗化表面具有表面粗糙度為0.01微米至0.6微米。
15.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中該溝槽具有一底面寬度與一頂面寬度,該頂面寬度大于該底面寬度。
16.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中該基板具有一線路區(qū)與一外圍區(qū),該溝槽形成于該線路區(qū),且填充該導(dǎo)電材料于該溝槽之中與之上的步驟還包括:形成該導(dǎo)電材料于該基板的整個表面上。
17.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中移除該介電層的一部份通過一激光鉆孔制程而形成。
18.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中填充該導(dǎo)電材料于該溝槽之中還包括:
填滿該溝槽并填充到該介電層之上,其中該導(dǎo)電材料的一上表面高于該介電層的一上表面。
19.如權(quán)利要求10所述的電路板結(jié)構(gòu)的制造方法,其中形成該導(dǎo)電襯層于該溝槽的上部份的底面與側(cè)壁上還包括:
形成該導(dǎo)電襯層于該介電層之上,其中該導(dǎo)電襯層介于該介電層與該第二線路層之間。
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