[發明專利]一種現代真空鍍膜機電氣控制系統

在審

• 申請號: 201611023437.2
• 申請日: 2016-11-21
• 公開（公告）號: CN108089513A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發明（設計）人: 趙江濤
• 申請（專利權）人: 趙江濤
• 主分類號: G05B19/05
• 分類號: G05B19/05
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

一種現代真空鍍膜機電氣控制系統，結合鍍膜工藝流程，對電氣控制系統軟、硬件結構進行了論證分析和相應的設計，同時介紹了PLC的選型，最終實現了以歐姆龍PLC為核心的現代真空鍍膜機控制系統。該電氣控制系統具有手動/自動控制、故障報替等功能。系統經過了實驗室和現場的兩步調試，解決了潛在問題，最終生產實踐證實了該系統的可行性，實現了工藝要求，滿足了客戶需求。

技術領域

本發明涉及一種現代真空鍍膜機電氣控制系統，適用于機械領域。

背景技術

真空鍍膜是改變物體表面物理化學性質的表面處理技術，也屬于氣相沉積技術。如今，應用領域對真空鍍膜機的發展提出更高要求，體現在以下方面：伴隨工業的快速發展，更多領域要求鍍膜機大型化、智能化、自動化。不同客戶要求不同的工作環境，干擾源也多變和復雜，真空鍍膜機要適應不同的甚至是惡劣的環境(如高溫、潮濕、多塵、強腐蝕、強電磁、高頻干擾等)。客戶要求更高的膜層質量，鍍膜的種類也越來越多，設備必然要有相應水平的鍍膜靈活性和穩定性。真空系統越來越復雜，要控制的真空泵和閥門很多，而且它們之間存在著嚴格的連鎖關系，操作錯誤會引起嚴重后果。以上這些要求和功能主要由先進的真空鍍膜機的電氣控制系統來實現。真空鍍膜機采用了OMRON可編程控制器(Programmable Logic Controller，PLC)為核心的電控系統，抗干擾強，布線簡單，更改或增加功能容易，維修和檢修都很方便，擺脫了原控制系統采用很多的繼電器-接觸器來滿足功能的增加造成的臃腫繁雜、操作麻煩的缺點，達到了鍍膜工藝更高要求，滿足了不同用戶的需求，是現代真空鍍膜機的發展趨勢。

發明內容

本發明提出了一種現代真空鍍膜機電氣控制系統，結合鍍膜工藝流程，對電氣控制系統軟、硬件結構進行了論證分析和相應的設計，同時介紹了PLC的選型，最終實現了以歐姆龍PLC為核心的現代真空鍍膜機控制系統。

本發明所采用的技術方案是：

所述電氣控制系統通過脈沖輸出可實現各種基本的位置控制，可進行分散控制和模擬量控制，它不僅可以科代繼電器控制柜，就是作為小型控制器或在傳感器應用中，亦能適應生產現場不同的需求。

所述電氣控制系統的強電回路采用經典的三相四線制，通過接觸器控制電機的通斷。

所述電氣控制系統中，強電回路接線正確與否可以利用按鈕的通斷和萬用表來測量各線路通斷情況是否與設計要求一致。

本發明的有益效果是：該電氣控制系統具有手動/自動控制、故障報替等功能。系統經過了實驗室和現場的兩步調試，解決了潛在問題，最終生產實踐證實了該系統的可行性，實現了工藝要求，滿足了客戶需求。

附圖說明

圖1是本發明的強電回路圖。

圖2是本發明的I/O接線圖。

圖3是本發明的真空系統簡圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步說明。

如圖1、圖2，PLC作為當代工業自動化三大支柱之一，它的綜合性能使它在工業領域應用廣泛。OMRON是世界主要的PLC生產商之一，大、中、小型PLC產品種類繁多，其產品較早就在國內廣泛應用。CPM1A型PLC在編程環境等方面，它不僅具備了以往的小型PLC所具有的功能，盡可能使安裝空間最小化，并實現了具有20點~100點輸入輸出點數的彈性構成。而且還可連接可編程控制終端，創造了尚無前例的靈活運用。通過脈沖輸出可實現各種基本的位置控制，可進行分散控制和模擬量控制。它不僅可以替代繼電器控制柜，就是作為小型控制器或在傳感器應用中，亦能適應生產現場不同的需求。CPM1A不失為經濟、實用的選擇。再根據鍍膜機的功能確定開關量輸入輸出實際數量以及考慮部分備用量，確定總I/O數。