[發(fā)明專利]一種水解氯硅烷殘液回收Si的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611020964.8 | 申請日： | 2016-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN106587076B | 公開（公告）日： | 2018-10-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 陳樑;趙義;黃兵;董森林;李銀光;徐卜剛;蔡吉祥;高瑞紅 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆明理工大學 |
| 主分類號： | C01B33/12 | 分類號： | C01B33/12 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 水解 硅烷 回收 si 方法 | ||
1.一種水解氯硅烷殘液回收Si的方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）經(jīng)沉淀、過濾預處理后的殘液送入殘液儲罐（1）通過殘液計量泵將殘液泵入硫酸淋洗塔（8），與硫酸淋洗液混合進入混合攪拌反應釜（2），經(jīng)充分水解釋放出的H2、HCl及部分水汽夾帶的氯硅烷成分通過排氣管返回硫酸淋洗塔（8）；
（2）混合攪拌反應釜（2）中水解生成SiO2渣液混合物利用渣漿泵打入一級靜液刮板槽（3）中靜置分層，刮板機刮出上浮的SiO2，送入洗滌系統(tǒng)（5），一級靜液刮板槽（3）的底部與二級靜液刮板槽（4）連通，使含少量懸浮SiO2的硫酸溶液流入二級靜液刮板槽（4），進一步利用硫酸吸水性，使SiO2上浮，利用刮板機刮出SiO2浮渣，并送入洗滌系統(tǒng)（5）；
（3）一級靜液刮板槽（3）與二級靜液刮板槽（4）中釋放出HCl及部分水汽通過排氣管返回到硫酸淋洗塔（8）中淋洗脫水；
（4）SiO2浮渣先在洗滌系統(tǒng)（5）用洗滌水洗滌，然后經(jīng)脫水系統(tǒng)（6）脫水，最后送入干燥系統(tǒng)（7）進行干燥產(chǎn)出SiO2成品，洗滌水回用做硫酸淋洗液補水；
（5）二級靜液刮板槽（4）中的硫酸溶液返回到硫酸儲罐（11）中，硫酸溶液存儲在硫酸儲罐（11）中，泵入硫酸濃度配制槽（10）補水攪拌后作硫酸淋洗塔（8）淋洗液；
（6）經(jīng)硫酸淋洗塔（8）淋洗脫水后，氣相H2、HCl排入堿液槽（9）中利用堿液吸收除去HCl后安全排放；
硫酸淋洗液中硫酸的質(zhì)量百分比濃度為25%-60%，所述的硫酸淋洗液噴淋量與處理氯硅烷殘液的質(zhì)量比為30:1~50:1。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水解氯硅烷殘液回收Si的方法，其特征在于：混合攪拌反應釜（2）溫度為30~55℃，硫酸淋洗塔（8）溫度為20~50℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水解氯硅烷殘液回收Si的方法，其特征在于：一級靜液刮板槽（3）中液相停留時間25~40min，二級靜液刮板槽（4）中液相停留時間45~60min。
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