[發(fā)明專利]電子元件的制造方法及層疊體有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611020516.8 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107039327B | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柿村崇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社斯庫林集團(tuán) |
| 主分類號(hào): | H01L21/683 | 分類號(hào): | H01L21/683;H01L51/56 |
| 代理公司: | 11205 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 馬爽;臧建明 |
| 地址: | 日本京都府京都市上京區(qū)堀*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子元件 制造 方法 層疊 | ||
本發(fā)明涉及一種電子元件的制造方法及層疊體。本發(fā)明涉及一種在制造電子元件時(shí)可將層疊體中的基層與電子元件良好地剝離的技術(shù)。當(dāng)一面向腔室內(nèi)供給含有氫的氣體,一面在該腔室內(nèi)形成類金剛石碳層時(shí),調(diào)整相對(duì)于供給至基層的一方向側(cè)的碳的供給量的氫的供給量的比率。類金剛石碳層作為通過使該層中的氫成分進(jìn)行氣化而從基層上剝離電子元件的剝離層發(fā)揮功能。因此,通過事先調(diào)整類金剛石碳層中的氫含有率,其后可從基層上良好地剝離電子元件。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在制造電子元件時(shí),從層疊體中的基層上剝離電子元件的技術(shù)。
背景技術(shù)
就用于便攜式機(jī)器等的觀點(diǎn)而言,具有柔性的電子元件的制造技術(shù)正受到矚目。例如,已知有在具有柔性的塑料膜上形成發(fā)光元件來制造電致發(fā)光(electro-luminescence)顯示裝置(以下,稱為EL顯示裝置)的技術(shù)。
然而,當(dāng)在具有柔性的塑料膜上形成發(fā)光元件來制造EL顯示裝置時(shí),對(duì)形狀不穩(wěn)定的對(duì)象物執(zhí)行用以制造EL顯示裝置的各處理,而難以制造具有良好的電特性的EL顯示裝置。
例如,在專利文獻(xiàn)1中公開有如下的技術(shù):在基層上形成剝離層,并在剝離層上形成電子元件,獲得包含基層與剝離層及電子元件的層疊體后,以剝離層為界線從基層上剝離電子元件,由此制造電子元件。
在該技術(shù)中,通過將玻璃基板等剛性材料用作基層,即便在電子元件具有柔性的情況下,生成層疊體的過程的中間體作為整體也具有剛性。因此,可對(duì)形狀穩(wěn)定的中間體執(zhí)行用以形成電子元件的各處理,而可制造具有良好的電特性的電子元件。
另外,在專利文獻(xiàn)1中公開有如下的技術(shù):將非晶硅層或類金剛石碳(Diamond-Like Carbon)層(以下,稱為DLC層)等含有氫的層用作剝離層,并對(duì)該剝離層照射激光,由此使剝離層中的氫進(jìn)行氣化,并以剝離層為界線從基層上剝離電子元件。在該技術(shù)中,通過剝離層中所產(chǎn)生的氫氣來促進(jìn)基層與電子元件的剝離,因此在剝離時(shí)減少對(duì)基層或電子元件所造成的損害。
[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[專利文獻(xiàn)]
[專利文獻(xiàn)1]日本專利特開2009-260387號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
[發(fā)明所要解決的問題]
然而,在專利文獻(xiàn)1中,關(guān)于為了從基層上良好地剝離電子元件而要求的剝離層的性質(zhì),除了在剝離層中含有氫這一點(diǎn)以外,無任何公開。因此,需要對(duì)于所述性質(zhì)的新的見解。
關(guān)于該見解,并不限于制造具有柔性的電子元件的情況或?qū)傂圆牧嫌米骰鶎拥那闆r,而在以剝離層為界線從基層上剝離電子元件的整個(gè)技術(shù)中需要。
本發(fā)明鑒于此種課題,目的在于提供一種在制造電子元件時(shí)可將層疊體中的基層與電子元件良好地剝離的技術(shù)。
[解決問題的技術(shù)手段]
本發(fā)明的第1種實(shí)現(xiàn)方式的電子元件的制造方法包括:類金剛石碳層形成步驟,一面向腔室內(nèi)供給含有氫的氣體,一面在所述腔室內(nèi)在基層的一方向側(cè)形成類金剛石碳層;電子元件形成步驟,在所述類金剛石碳層的所述一方向側(cè)形成電子元件,而獲得具有所述基層與所述類金剛石碳層及所述電子元件的層疊體;以及剝離步驟,使所述類金剛石碳層中的氫成分進(jìn)行氣化而從所述基層上剝離所述電子元件;且在所述類金剛石碳層形成步驟中,調(diào)整相對(duì)于供給至所述基層的所述一方向側(cè)的碳的供給量的所述氫的供給量的比率。
本發(fā)明的第2種實(shí)現(xiàn)方式的電子元件的制造方法根據(jù)本發(fā)明的第1種實(shí)現(xiàn)方式的電子元件的制造方法:在所述類金剛石碳層形成步驟中,以所述比率經(jīng)時(shí)地變化的方式進(jìn)行調(diào)整。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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