[發(fā)明專利]一種超薄膜制備、界面表征及調(diào)控集成系統(tǒng)及應(yīng)用方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611020137.9 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106555166B | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙巍勝;趙曉璇;林曉陽(yáng);張博宇;雷娜;曹安妮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/54 | 分類號(hào): | C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京慧泉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11232 | 代理人: | 王順榮;唐愛華 |
| 地址: | 100191*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 制備 界面 表征 調(diào)控 集成 系統(tǒng) 應(yīng)用 方法 | ||
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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