[發明專利]產生氣體分析裝置以及產生氣體分析方法

有效

• 申請號: 201611016238.9
• 申請日: 2016-11-18
• 公開（公告）號: CN106908307B
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: 秋山秀之;山田健太郎;竹內俊公
• 申請（專利權）人: 日本株式會社日立高新技術科學
• 主分類號: G01N1/44
• 分類號: G01N1/44;G01N1/42;G01N33/00;G01N35/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李婷;傅永霄

1.一種產生氣體分析裝置，具備：

試料架，保持試料；

加熱部，將該試料架收納于自身的內部，加熱前述試料而產生氣體成分；

檢測機構，對在該加熱部生成的前述氣體成分進行檢測；

該產生氣體分析裝置的特征在于，還具備：

試料架支承部，在前述加熱部的內外的既定位置可移動地支承前述試料架；

冷卻部，配置于前述加熱部的外側，在使前述試料架移動至前述加熱部的外側且能將前述試料取出或放入的排出位置時，直接或間接地與前述試料架接觸而冷卻該試料架，

試料架移動部，使前述試料架移動，具有：第一彈簧部，在前述試料架與前述冷卻部接觸時，對前述試料架朝向推壓于所述冷卻部的方向施力；第二彈簧部，在前述試料架與前述加熱部接觸時，對前述試料架朝向推壓于所述加熱部的方向施力。

2.如權利要求1 所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述冷卻部具有與前述試料架接觸的冷卻塊。

3.如權利要求2所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述冷卻塊具備：接觸部，在前述排出位置與前述試料架接觸；突出部，相比該接觸部還向前述加熱部側延伸而包圍前述試料架。

4.如權利要求2所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述冷卻部還具有對前述冷卻塊進行冷卻的空冷風扇或空冷翅片。

5.如權利要求4所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述冷卻部還具有對前述冷卻塊進行冷卻的空冷風扇、空冷翅片以及風扇導流件，

前述空冷翅片連接于前述冷卻塊的底部以及側面，

前述空冷風扇配置在連接于前述冷卻塊的底部的前述空冷翅片的下方，

前述風扇導流件從前述空冷風扇朝向連接在前述冷卻塊的側面的前述空冷翅片的外側延伸，呈將來自前述空冷風扇的冷卻風向該空冷翅片引導的導風板。

6.如權利要求2至5中任意一項所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述冷卻塊的熱容量C1與前述試料架的熱容量C2的比（C1/C2）為5~20。

7.如權利要求1至3中任意一項所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述加熱部具備將該加熱部內加熱到既定溫度的加熱部加熱器，

前述試料架具備加熱前述試料的試料側加熱器。

8.如權利要求1至3中任意一項所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，還具有：自動取樣器，從外部將前述試料自動地對前述試料架取出或放入；

前述試料架移動部與前述自動取樣器連動而使前述試料架移動。

9.如權利要求1至3中任意一項所述的產生氣體分析裝置，其特征在于，前述加熱部的內壁中保持于前述試料架的前述試料的周圍的部位呈朝向外側擴展的凹部，

前述凹部一體地具有：前述加熱部的內部的前述氣體成分的流通方向的上游側的第一凹部、相比該第一凹部位于前述流通方向的下游側而與前述內壁相接的第二凹部，

從前述加熱部的沿著前述流通方向的截面觀察，前述第二凹部的輪廓與前述第二凹部與前述內壁的接點處的內壁的法線相比，位于前述流通方向的上游側。

10.一種產生氣體分析方法，該產生氣體分析方法將保持試料的試料架在加熱部的內外的既定位置可移動地支承，并且，在前述加熱部的內部收納前述試料架而加熱前述試料，檢測產生的氣體成分，

該產生氣體分析方法的特征在于，

在使前述試料架移動至前述加熱部的外側且能將前述試料取出或放入的排出位置時，使前述試料架與配置在前述加熱部的外側的冷卻部接觸而冷卻該試料架，

在前述試料架與前述冷卻部接觸時，借助第一彈簧部對前述試料架朝向推壓于所述冷卻部的方向施力；在前述試料架與前述加熱部接觸時，借助第二彈簧部對前述試料架朝向推壓于所述加熱部的方向施力。